METHOD OF PRODUCING A SURFACE-LAYER STRUCTURE, AND USE OF THE METHOD

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Schichtstruktur, bei dem eine Matrix mit Metall-Ionen dotiert wird. Es ist Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren der vorgangs genannten Art zu schaffen, bei dem das Tiefenprofil der Metall-Ionen im Substrat einstellbar ist, so dass eine Optimierung der Dotierung erreicht wird, ohne die im Stand der Technik aufgezeigten Nachteile. Dazu wird mittels Laserablation in einer Sauerstoffatmosphäre zunächst auf einem geeigneten Substrat Matrixmaterial abgeschieden und an der Substratoberfläche auf diese Weise eine aus Matrixmaterial bestehende, erstere Schicht gebildet. Danach wird auf der Oberfläche dieser ersteren Schicht Dotiermaterial und danach erneut Matrixmaterial abgeschieden. Im Ergebnis erhält man eine gleichmässige Dotierung der abgeschiedenen Matrix in einem definierten Tiefenbereich der so hergestellten Schichtstruktur.