发明名称 檀、沈香炉之改良结构
摘要 一种檀、沈香炉之改良结构,系具有一底座和底座上的一个炉体之组合;这底座包含一枢接端面上之槽座和一限定构件,用以保持一容器,容器有一槽面用来收容一个携带加热元件的衬材,所述加热元件的导线端系伸出上述槽面,然后进入一匣装置内;这匣装置有一弹性构件使匣装置有一作用间隙恒常的压向容器。一装设在底座内,至少包含一微处理器、热源输出电路、和语音单元之控制系统,系供给该加热元件蒸发容器内盛物,并输出语音讯号之构造者。
申请公布号 TW257962 申请公布日期 1995.09.21
申请号 TW083216101 申请日期 1994.11.07
申请人 卜冠华 发明人 卜冠华
分类号 A47G33/02 主分类号 A47G33/02
代理机构 代理人
主权项 1.一种檀、沈香炉之改良结构,系具有一个界定一内腔之底座和设置在底座上的一个炉体之组合;其特征包括:底座一枢接端面上之槽座,其包含一个限定构件;装置在槽座上之一容器,系具有一个通孔和通孔上之一加热元件;设置在上述内腔之一控制系统,系至少包含一微处理器、与该微处理器连接,且受其控制之一热源输出电路而连接所述之加热元件,和一语音单元等,其经过一按键电路传输指令给所述微处理器;以及一匣装置,被上述限定构件拘留,其有一弹性构件使匣装置有一作用间隙恒常的推向容器者。2.如申请专利范围第1项所述之檀、沈香炉之改良结构;其中,该匣装置更包括:一具有开放边的壳室;以及一被保持在所述壳室内之匣室,其因上述弹性构件与壳室形成一张力作用间隙。3.如申请专利范围第1项所述之檀、沈香炉之改良结构;其中,该容器系包含:一槽面,上述通孔和一注入孔系设在这槽面上;一盖件,系装设在所述之槽面上,但允许该通孔与外界相通;安装在该槽面上之一衬材,其有一个对齐通孔的栓孔和两边的臂,这臂允许上述之加热元件经过;以及一设在容器内之纤维物条,其有一端在通过上述栓孔之后,和该加热元件接触者。4.如申请专利范围第1或2项所述之檀、沈香炉之改良结构;其中,匣装置之壳室的两边壁包含一在纵向延伸的楔子,使匣装置可移动的组配在槽座之限定构件内。5.如申请专利范围第1项所述之檀、沈香炉之改良结构;其中,槽座之限定构件大体是成对称之柱状构形,其形成了一对轨道在沿轴线方向的位置。6.如申请专利范围第1或2项所述之檀、沈香炉之改良结构;其中,匣装置之壳室的开放边设有一对限定附件,大体是一个板片或条状之构形。7.如申请专利范围第2项所述之檀、沈香炉之改良结构;其中,该弹性构件系设置在壳室和匣室之间,恒常的将匣室推向壳室的开放边。8.如申请专利范围第1项所述之檀、沈香炉之改良结构;其中,该底座系包含:一环状构形的座;一个相对于上述座的构形而附接于其上的盘构件;以及套接在最上面的套件单元,其底边具有柱脚,它们系在通过盘构件之后,和座之轴孔对齐。9.如申请专利范围第1或8项所述之檀、沈香炉之改良结构;其中,套件单元之枢接端面沿远离轴心的位置,系有一个或更多个挟持单元,成环状排列在端面上,每一个挟持单元分别包含一个封闭端和开口諯,以允许炉体底边的裙部可以自开口端进入挟持单元,而向封闭端移动。10.如申请专利范围第1或2项所述之檀、沈香炉之改良结构;其中,匣室具有一对凸出的端缘,让匣室被保持在壳室内。11.如申请专利范围第1或2项所述之檀、沈香炉之改良结构;其中,该加热元件可为一电热线,其有两头端分别经过臂之后,系延伸出导线端以形成一个插头,用以连接于匣室内的插座上。12.如申请专利范围第1项所述之檀、沈香炉之改良结构;其中,该控制系统更包含有一连接微处理器之显示电路和一蜂鸣电路。13.如申请专利范围第1或12项所述之檀、沈香炉之改良结构;其中,该微处理器系至少包含:一中央处理单元;提供中央处理单元所执行控制程序和处理资料储存位置之记忆体;以及一输出入单元,连接中央处理单元与外部之按键电路、热源输出电路、语音单元、蜂鸣电路和显示电路之间,并且控制上述外部各单元或电路之输出、输入动作。14.如申请专利范围第1或12项所述之檀、沈香炉之改良结构;其中,该显示电路包含许多个显示指示灯组,这灯组系设置在底座之一视窗或槽口上。15.如申请专利范围第1项所述之檀、沈香炉之改良结构;其中,语音单元系包含:烧录语音资料和语音合成功能之语音晶片;一控音晶片;连接所述之语音晶片输出端;一控制音量大小之可变电阻;以及一放大器,然后经过喇叭将声音输出者。16.如申请专利范围第1或15项所述之檀、沈香炉之改良结构;其中,该语音晶片之输出端更连接一电晶体和至少一投射灯。17.如申请专利范围第16项所述之檀、沈香炉之改良结构;其中,该投射灯系利用一个垫材固定在底座之一中心孔上。图示简单说明:第一图系本创作之结构分解图;图中显示底座的组成和容器、匣装置等部份。第二图系第一图的结构组合之俯视示意图;描述各组件之配置关系图。第三图系本创作之局部剖视图;显示包括炉体、底座、控制系统、容器、和匣装置等组件之相关位置图。第四图系本创作控制系统之方块示意图。第五图系第四图之电路实施例图。
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