光电探测器制作过程中清洗硼硅玻璃的方法

摘要

一种光电探测器制作过程中清洗硼硅玻璃的方法，在清洗硼硅玻璃之前，先对器件进行热氧化处理，然后采用湿法腐蚀法对光敏区进行清洗。本发明的有益技术效果是：可以在光电探测器制作过程中，更加容易地去除残留在光敏区的硼硅玻璃，提高光敏区的清洁度，从而获得均匀性较好的增透膜，使光电探测器的光响应均匀性得到提高。

主权项

一种光电探测器制作过程中清洗硼硅玻璃的方法，包括：光电探测器制作过程中，通过在器件的硅衬底表面进行硼扩散工艺形成光敏区，光敏区表面会附着一层因硼扩散工艺而产生的硼硅玻璃，其特征在于：采用如下方法去除附着在光敏区表面的硼硅玻璃：1）将器件置于氧化炉中进行热氧化处理：热氧化处理使得硼硅玻璃内侧的硅衬底表面被氧化为二氧化硅，由于二氧化硅的生成导致硅衬底表面发生微小的形变，使得附着在硅衬底表面的硼硅玻璃变得酥松；2）采用湿法腐蚀法对光敏区进行清洗：腐蚀液在对硼硅玻璃起到腐蚀作用的同时，腐蚀液还通过硼硅玻璃之间的孔隙渗入硅衬底表面，从而对步骤1）中生成的二氧化硅起到腐蚀作用，使硼硅玻璃失去附着部，可以更加容易地将硼硅玻璃从光敏区表面清除掉；所述腐蚀液采用硝酸和氢氟酸的混合溶液。