主权项 |
1. 一种浮空熔解法,其特征为于周围设置有诱置加热线圈之水冷铜坩埚内插入熔解材料,而使得熔解液未接触该坩埚壁面而进行熔解;当熔解液被吸至铸模内时,在熔解液仍残存于坩埚内之状态下将新的熔解材料追加插入于该熔解液上,而反覆地进行熔解。2. 如申请专利范围第1项所述之浮空熔解法,其中,该坩埚内残存之熔解液量可充分填满该追加插入之新熔解材料之间隙。3. 如申请专利范围第1项所述之浮空熔解法,其中,该追加插入之熔解材料重量及总体比重、以及1次之铸模使用量设定为满足下式中之K<1.8。W@ssS=KW@ssM/{K-1+(@ssM/@sss)}W@sss;追加插入重量(kg)W@ssM;尚未吸入铸模时之熔解液重量(kg)@ssM;熔解液之比重(g/cm@su3)@sss;熔解母材之总体比重(g/cm@su3)K;作业参数4. 如申请专利范围第2项所述之浮空熔解法,其中,该追加插入之熔解材料之总体比重设定为满足下式中K<1.8,且该熔解材料为材料片及材料粉之混合物。@sss=@ssMLW@sss/{K(W@ssM-W@sss)+W@sss}W@sss;追加插入重量(kg)W@ssM;尚未吸入铸模时之熔解液重量(kg)p@ssM;熔解液之比重(g/cm@su3)p@sss;熔解材料之总体比重(g/cm@su3)K;作业参数5. 如申请专利范围第3或4项所述之浮空熔解法,其中,该作业参数满足0.5≦K≦1.5。6. 一种浮空熔解铸造装置,其特征为于周围设置有诱导加热线圈之水冷铜坩埚底部使用同熔解材料之材料闭塞之,同时在坩埚内藉非活性气体屏障而将该诱导加热线圈通电以熔解坩埚内之熔解材料,接着将铸模之吸上管自坩埚上部插入熔解液内,之后进行减压吸引铸造;于该浮空熔解铸造装置中,具备可收纳追加插入用熔解材料之置熔解材料容器,于该减压吸引铸造工程完成后,该置熔解材容器会取代铸模之位置而位于坩埚上方,如此即可将置熔解材料容器内之熔解材料投入坩埚内。图示简单说明:图1为显示构成实施例中之浮空熔解铸造装置之说明图。图2为显示构成实施例之处理顺序之说明图。图3为基于实验结果所作成之图形。 |