发明名称 用于吸收紫外光之经矽烷化试剂
摘要 能吸收紫外光之新颖的经矽烷化试剂,将其加入矽酮硬涂层中并用于涂覆聚碳酸酯基质。此经矽烷化试剂具有下述化学式: $$其中每一个R各自独立地C6-12芳基或经C1-4烷基取代之芳基,R1为C1-6伸烷基,且R2为C1-6烷基。该经涂覆的聚碳酸酯基质展现出经改善的耐磨蚀性及耐紫外光性。
申请公布号 TW289032 申请公布日期 1996.10.21
申请号 TW084101695 申请日期 1995.02.23
申请人 通用电机股份有限公司 发明人 詹姆士.皮克特
分类号 C08K5/00 主分类号 C08K5/00
代理机构 代理人 林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1.一种用于吸收紫外光的经矽烷化试剂,其具有下述化学式其中每一个R各自独立地为C@ss6@ss-@ss1@ss2芳基或经C@ss1@ss-@ss4烷基取代之芳基,R@su1为C@ss1@ss-@ss6伸烷基,且R@su2为C@ss1@ss-@ss6烷基。2.如申请专利范围第1项之用于吸收紫外光的经矽烷化试剂,其中该经矽烷化试剂为4,6-二苯甲醯二酚-2-(3-三乙氧基甲矽烷基丙基)间苯二酚。3.一种矽酮硬涂层溶液,其包含:(a)1至15pph(part per hundred,百分之一),以硬涂层中固体总重为基准,具有下述化学式的经矽烷化试剂其中每一个R各自独立地为C@ss6@ss1@ss2芳基或经C@ss1@ss-@ss4烷基取代之芳基,R@su1为C@ss1@ss-@ss6伸烷基,且R@su2为C@ss1@ss-@ss6烷基;以及(b)含有矽化合物的组合物,其具有下述化学式@qc R@su3Si (OR@su3)@ss3其中每一个R@su3各自独立地为具有1至3个碳原子的基或为经取代未经取代的C@ss6@ss-@ss1@ss2芳基。4.一种经施加矽酮硬涂层的聚碳酸酯固体基质,其中该矽酮硬涂层包含:(a)1至15pph,以硬涂层中固体总重为基准,具有下述化学式之用于吸收紫外光的经矽烷化试剂其中每一个R各自独立地为C@ss6@ss-@ss1@ss2芳基或经C@ss1@ss-@ss4烷基取代之芳基,R@su1为C@ss1@ss-@ss6伸烷基,且R@su2为C@ss1@ss-@ss6烷;以及(b)含有矽化合物的组合物,其@qc R@su3Si (OR@su3)@ss3其中每一个R@su3各自独立地为具有1至3个碳原子的烷基或为经取代未经取代的C@ss6@ss-@ss1@ss2芳基。5. 如申请专利范围第4项之固体基质,其中该聚碳酸酯为均聚碳酸酯或共聚碳酸酯。6.如申请专利范围第4项之固体基质,其中该聚碳酸酯包含下式之结构单元其中A@su1为二价经取代或未经取代的酯族,脂环族或芳族基团。7.如申请专利范围第6项之固体基质,其中A@su1为A@su2-Y-A@su3且A@su2和A@su3各自独立地为单环二价芳基,且Y为桥连基团。8.如申请专利范围第4项之固体基质,其中该固体基质系
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