| 主权项 |
1. 一种供电沈积涂料用之阳离子性颜料研磨树脂,系经由令如下二者反应而得;(a) 一种疏水环氧树脂,系经令双酚(bisphenol)A型环氧树脂与半封阻异氰酸酯反应而得;与(b) 硫化物;其于一分子内至少含有如下式代表之一基;式中R@ss1代表C@ss2-C@ss1@ss2烷基或烷醇基,X代表有机酸或无机酸残基,R@ss3代表脂肪族、环脂族或芳香族伸烷基,而R@ss4代表C@ss4-C@ss2@ss0烷基或烷基醚基,其中双酚A型环氧树脂之环氧当量为180至1,000,疏水环氧树脂之溶解度参数为10.0至11.0,硫化物当量系以疏水性环氧树脂之一环氧基为基准,于2.1至4.0之范围内,以及转化成第三铳之转化率为70至90%。2. 如申请专利范围第1项之阳离子性颜料研磨树脂,其中于该式中X代表R@ss2-COO-,其中R@ss2代表C@ss1-C@ss5烷醇基。3. 如申请专利范围第1项之阳离子性颜料研磨树脂,其中该聚环氧化物具有环氧当量180至1,000。4. 如申请专利范围第1项之阳离子性颜料研磨树脂,其中该聚环氧化物为双酚A之聚缩水甘油基醚。5. 如申请专利范围第1项之阳离子性颜料研磨树脂,其中该半封阻异氰酸酯系经由使用封阻剂将有机多异氰酸酯部分封阻而制得者。6. 如申请专利范围第5项之阳离子性颜料研磨树脂,其中该有机多异氰酸酯系限由下列各化合物中选出;二异氰酸伸丙二酯,二异氰酸伸丁二酯,二异氰酸伸戊二酯,二异氰酸伸己二酯,二异氰酸1,2-丙二酯,二异氰酸1,2-丁二酯,二异氰酸2,3-丁二酯,二异氰酸1,3-丁二酯,二异氰酸亚乙二酯,二异氰酸亚丁二酯,二异氰酸1,3-环戊二酯,二异氰酸1,4-环己二酯,二异氰酸1,2-环己二酯;二异氰酸间-苯二酯,二异氰酸对-苯二酯,二异氰酸对-苯二酯,二异氰酸4,4'-二苯二酯,二异氰酸1,5- 二酯,二异氰酸1,4- 二酯,二异氰酸4,4-二伸苯甲烷二酯,二异氰酸2,4-或2,6-甲苯二酯或其混合物,二异氰酸4,4'-甲苯胺,二异氰酸1,4-二甲苯二酯,异氰酸二茴香胺,二异氰酸4,4'-二苯基醚,二异氰酸氯二伸苯二酯,三苯甲烷-4,4',4''-三异氰酸酯,1,3,5-三异氰酸苯三酯,2,4,6-三异氰酸甲苯三酯,4,4'-二苯基二甲基甲烷-2,2',5,5'-四异氰酸酯,以及二异氰酸伸甲苯二酯二聚物和三聚物。7. 如申请专利范围第5项之阳离子性颜料研磨树脂,其中该封阻剂为具4至20碳原子之低碳脂肪族烷基一元醇。8. 如申请专利范围第1项之阳离子性颜料研磨树脂,其中该环氧树脂:半封阻异氰酸酯之反应比为1:1至1:2。9. 如申请专利范围第1项之阳离子性颜料研磨树脂,其中该疏水环氧树脂具有SP値为10.2至10.6。10. 如申请专利范围第1项之阳离子性颜料研磨树脂,其中该硫化物系由下式代表之:@qc R-S-R(式中R为含2至12碳原子之烷基或羟烷基)。11. 如申请专利范围第10项之阳离子性颜料研磨树脂,其中该硫化物为硫基二乙醇。12. 一种制备如申请专利范围第1项之供电沈积涂料用之阳离子性颜料研磨树脂之方法,其包括:() 提供SP値为10.0至11.0之疏水环氧树脂之一步骤,系经由令双酚A型环氧树脂(具环氧当量180至1,000)与半封阻的异氰酸酯反应而得;及() 疏水环氧树脂与硫化物反应之一步骤,而其数量为以一个环氧基为基准,硫化物当量系在2.1至4.0之范围。13. 一种包含颜料研磨树脂和颜料之颜料糊,其中该颜料研磨树脂,系经由令如下二者反应而得:(a)一种疏水环氧树脂,系经令双酚(bisphenol)A型环氧树脂与半封阻异氰酸酯反应而得;与(b)硫化物;其于一分子内至少含有如下式代表之一基;式中R@ss1代表C@ss2-C@ss1@ss2烷基或烷醇基,X代表有机酸或无机酸残基,R@ss3代表脂肪族、环脂族或芳香族伸烷基,而R@ss4代表C@ss4-C@ss2@ss0烷基或烷基醚基,其中双酚A型环氧树脂之环氧当量为180至1,000,疏水环氧树脂之溶解度参数为10.0至11.0,转化成第三铳之转化率为70至90%,且其中颜料/颜料研磨树脂之比系在1/1至1/10之范围。14. 一种电沈积糊,包括如申请专利范围第13项之颜料糊和可电沈积的薄膜生成性树脂于水性介质,其中以电沈积 |
