| 摘要 |
<p>La présente invention concerne un procédé et un équipement de lavage d'un lingot de silicium scié (2), qui réduisent la consommation du détergent utilisé pour nettoyer le lingot (2) après le sciage pour former des plaquettes distinctes de semi-conducteur (1). Le lingot (2) est pris comme une unité montée sur un support (3), après le sciage, pour l'amener à une machine de prélavage. Cette machine projette des jets (12) d'eau chaude ou très chaude sur le lingot (2). Les projections d'eau enlèvent une grande partie de la poussière. Ainsi, quand le lingot (2) est ensuite lavé avec un détergent, il y a moins de poussière à enlever, ce qui accroît la durée de vie efficace d'une quantité donnée de détergent.</p> |
