基于空间光调制器之印表机之最小化微带之曝光设计

摘要

一种用于灰度之时间延迟和整合印表之改良方法。由位元图样所呈现之灰度乃提供于时间延迟和整合印表在光敏基底上。图样(12)绕着光源之光强度循环而旋转，因此，在最后影像中之微带最小化或消除，并传送至空间光调制器(10)以传送至印表基底。

主权项

1. 一种改良的印表方法,包含:(a) 决定欲传送至光敏表面之表示灰度之位元图样;(b) 以光源照射空间光调制器,其中该光源具有已定光强度循环;(c) 以已定之曝光数目使时间延迟和整合该图样在光敏表面上;和(d) 转动给定线数目之位元环绕该光强度循环,因此旋转之位元数目依照线数目和已定之曝光数目而定。2. 一种以光源调制之时间延迟和整合印表之改良方法,其中灰度藉由一检索表而转换成位元图样以照射在空间光调制器上,其中该改良包含:转动该位元图样绕着该光源之光强度循环。3. 如申请专利范围第1项所述之方法,其中在光敏表面上之时间延迟和整合包括在相位中使光敏介质曝光。图示简单说明:图1为在习知之TIG印表之实施中,调制器之面之方块图;和