| 主权项 |
1. 一种减少氯气产生倾向的消毒及净化组合物,包括:(a) 50%至98%的氯化异三聚氰酸;(b) 0至7%的乙炔 及/或内醯 衍生物;(c) 2%至40%的四硼酸盐化合物;以及(d) 2%至40%的硫酸铝。2. 如申请专利范围第1项之组合物,其中该含卤素消毒剂为二氯异三聚氰酸或三氯异三聚氰酸(三氯-S-三三酮)。3. 如申请专利范围第1项之组合物,其中该内醯衍生物为烷化内醯 或卤化内醯 。4. 如申请专利范围第3项之组合物,其中该烷化内醯 为二甲基内醯 。5. 如申请专利范围第3项之组合物,其中该卤化内醯 为1-溴-3-氯-5,5-二甲基内醯 或1,3-二氯-5,5-二甲基内醯 。6. 如申请专利范围第1项之组合物,其中该四硼酸盐化合物为四硼酸钠或四硼酸钾。7. 如申请专利范围第1至6项中任一项之组合物,其中该组合物包括自65%至90%的氯化异三聚氰酸。8. 如申请专利范围第1至6项中任一项之组合物,其中该组合物包括自4%至20%的四硼酸盐。9. 如申请专利范围第1至6项中任一项之组合物,其中该组合物包括自5%至30%的硫酸铝。10. 如申请专利范围第1至6项中任一项之组合物,其中该组合物包括自0.5%至7%的乙炔 。11. 如申请专利范围第1至6项中任一项之组合物,其中该组合物尚含有硼酸。12. 如申请专利范围第1至6项中任一项之组合物,其中该组合物尚含有染料。13. 如申请专利范围第1项之组合物,其包括(a) 50%至98%的三氯-S-三 三酮;(c) 2%至40%的四硼酸钠;以及(d) 2%至40%的硫酸铝。14. 如申请专利范围第13项之组合物,其尚包含自0.5%至7%的乙炔 。15. 一种净化及消毒水同时使令人不悦的氯气之产生降至最低的方法,该方法包括于水中加入一种消毒及净化组合物,包括(a) 50%至98%的氯化异三聚氰酸;(b) 0至7%的乙炔 及/或内醯 衍生物;(c) 2%至40%的四硼酸盐化合物;以及(d) 2%至40%的硫酸铝。16. 如申请专利范围第15项之方法,其中该含卤素消毒剂为二氯异三聚氰酸或三氯异三聚氰酸(三氯-S-三三酮)。17. 如申请专利范围第15项之方法,其中该内醯衍生物为烷化内醯 或卤化内醯 。18. 如申请专利范围第17项之方法,其中该烷化内醯 为二甲基内醯 。19. 如申请专利范围第17项之方法,其中该卤化内醯 为1-溴-3-氯-5,5-二甲基内醯 或1,3-二氯-5,5-二甲基内醯 。20. 如申请专利范围第15项之方法,其中该四硼酸盐化合物为四硼酸钠或四硼酸钾。21. 如申请专利范围第15至20项中任一项之方法,其中该组合物包括自65%至90%的氯化异三聚氰酸。22. 如申请专利范围第15至20项中任一项之方法,其中该组合物包括自4%至20%的四硼酸盐。23. 如申请专利范围第15至20项中任一项之方法,其中该组合物包括自5%至30%的硫酸铝。24. 如申请专利范围第15至20项中任一项之方法,其中该组合物包括自0.5%至7%的乙炔 。25. 如申请专利范围第15至20项中任一项之方法,其中该组合物尚含有硼酸。26. 如申请专利范围第15至20项中任一项之方法,其中该组合物尚含有染料。27. 如申请专利范围第15项之方法,其中该组合物包括:(a) 50%至98%的三氯-S-三 三酮;(c) 2%至40%的四硼酸钠;以及(d) 2%至40%的硫酸铝。28. 如申请专利范围第27项的方法,其中该组合物尚包含 |
