| 主权项 |
1. 一种电弧炉,包含顶容器(11)与被支持之炉顶,该炉顶具有至少一电极之通道所需之开口,该电极与炉顶无关地被支持住且该电极设有移动单元以便作铅垂向之位移,且该炉又包含密封单元,此密封单元之设置被用作电极与开口间之表面的水平密封及铅垂密封,其特征为移动单元包含电弧底端作实质上之水平位移所需之移动装置(51),且炉顶(12)设有中央开口(13),此中央开口包含顶核心(14),该顶核心可与炉顶(12)无关地移动,且炉顶(12)与其上所支持之顶核心(14)之间设有密封机构(16)。2.依照申请专利范围第1项之电弧炉,其特征为移动装置(51)之设置被用来使电极(31)作水平位移。3. 依照申请专利范围第1项之电弧炉,其特征为角方向定位之调整机构被设置成移动装置(51)以便使电极(31)绕着至少一枢旋轴线(A1.A2)作枢旋。4. 依照申请专利范围第3项之电弧炉,其特征为角方向定位之调整装置包含至少一个可分开驱动之调整驱动器。5. 依照申请专利范围第1项之电弧炉,其特征为移动机构(51)被设为转动齿轮以便使电极(31)绕着电极轴线作转动。6. 依照申请专利范围第1项、第2项及第3项其中一项之电弧炉,其特征为炉顶(12)之中央开口(13)(之直径)为电极直径之倍数。7. 依照申请专利范围第6项之电弧炉,其特征为炉顶之中央开口的直径为500mm至1500mm。8. 依照申请专利范围第1项、第2项、第3项、第4项及第5项其中一项之电弧炉,其特征为密封机构包含密封架(21),此密封架以闭合圈的方式包围电极,且密封套筒(22)被设置在密封架(21)与电极(31)之间且与该电极共轴线,该套筒之外表面经加工而适于轻微地对接顶靠着密封架(21)之内表面。9. 依照申请专利范围第1项之电弧炉,其特征为温度感测器以类似颈圈之方式列置在顶容器(11)之炉室的四周。10. 依照申请专利范围第1项之电弧炉的操作方法,其中经由电弧炉之顶容器(11)上所列置之温度感测器来作炉壁温度之局部检测且电极可位移,其特征为当炉壁之局部区域中超过预定之温度値时电极之电弧底端可自动移离该区域。11. 依照申请专利范围第10项之方法,其特征为电弧底端沿径向方向移离该过热区域。12. 依照申请专利范围第10项或第11项之方法,其特征为电极尖端中面对过热区域之侧以绕着轴线之方式转动至背离过热区域之侧。图示简单说明: |
