电射退火方法

摘要

在藉由以具有正常分布型式轮廓或类似的光束轮廓来照明一非晶矽膜的结晶中，以重叠的方式来施加线性的脉冲雷射光束。可以得到类似于在许多扫描中雷射照明功率被逐渐增加然后以步阶方式减小的方法之效果。

主权项

1.一种雷射退火方法,包含以下步骤;将脉冲雷射光束做成线形光束的形状;及当在一方向上分别以雷射光束来扫描时,将线性脉冲雷射光束施加至一照明物体。2.如申请专利范围第1项之雷射退火方法,其中雷射光束在扫描方向上具有正常分布型式能量轮廓。3.如申请专利范围第1项之雷射退火方法,其中雷射光束在扫描方向上具有梯形能量轮廓。4.一种雷射退火方法,包含以下步骤:将脉冲雷射光束做成线形光束的形状;及当以雷射光束来扫描时,将线性脉冲雷射光束施加至一照明物体,其中雷射光束是以重叠的方式被施加,而在照明物体上照明任意的选定点数次。5.一种雷射退火方法,包含以下步骤:将脉冲雷射光束做成线形光束的形状;及当以雷射光束来扫描时,将线性脉冲雷射光束施加至一照明物体,其中雷射光束是以重叠的方式被施加,而在照明物体上照明任意的选定点3至100次。6.一种雷射退火方法,包含以下步骤:将脉冲雷射光束做成线形光束的形状;及当以雷射光束来扫描时,将线性脉冲雷射光束施加至一照明物体,其中雷射光束是以重叠的方式被施加,而在照明物体上照明任意的选定点10至20次。7.如申请专利范围第4.5或6项之雷射退火方法,其中雷射光束在扫描方向上具有正常分布型式能量轮廓。8.如申请专利范围第4.5或6项之雷射退火方法,其中雷射光束在扫描方向上具有梯形能量轮廓。9.一种雷射退火方法,包含以下步骤:将脉冲雷射光束做成线形光束的形状;此线性光束具有正常分布型式能量轮廓或类似的能量轮廓;及当在一方向上分别以雷射光束来扫描时,将线性脉冲雷射光束施加至一照明物体。10.一种雷射退火方法,包含以下步骤:将脉冲雷射光束做成线形光束的形状;此线性光束具有梯形能量轮廓;及当在一方向上分别以雷射光束来扫描时,将线性脉冲雷射光束施加至一照明物体。11.一种雷射退火方法,包含以下步骤:将脉冲雷射光束做成线形光束的形状;此线性光束在宽度方向上具有正常分布型式能量轮廓或类似的能量轮廓;及当在宽度向上移动雷射光束时,将线性脉冲雷射光束施加至一照明物体,其中雷射光束是以重叠的方式被施加,而在照明区域上照明任意的选定点10至30次。12.一种雷射退火方法,包含以下步骤:将脉冲雷射光束做成线形光束的形状;此线性光束在宽度方向上具有梯形能量轮廓;及当在宽度向上移动雷射光束时,将线性脉冲雷射光束施加至一照明物体,其中雷射光束是以重叠的方式被施加,而在照明区域上照明任意的选定点10至30次。13.一种雷射退火方法,包含以下步骤:以每秒N次的速率来发射脉冲雷射光束;将脉冲雷射光束做成线性光束的形状,此线性光束在其宽度方向上具有宽度L、正常分布型式能量轮廓或类似的能量轮廓、及100至500mJ/cm2的平均单一脉冲能量密度;及当以速度V在宽度方向上使用雷射光束扫描时,施加雷射光束至具有150至1000埃厚度之矽膜的预定区域,其中在一次扫描中被施加至预定区域的雷射光束脉冲之数目满足10≦LN/V≦30之关系。14.一种雷射退火方法,包含以下步骤:以每秒N次的速率来发射脉冲雷射光束;将脉冲雷射光束做成线性光束的形状,此线性光束在其宽度方向上具有宽度L、梯形能量轮廓、及100至500mJ/cm2的平均单一脉冲能量密度;及当以速度V在宽度方向上使用雷射光束扫描时,施加雷射光束至具有150至1000埃厚度之矽膜的预定区域,其中在一次扫描中被施加至预定区域的雷射光束脉冲之数目满足10≦LN/V≦30之关系。15.一种雷射退火方法,包含以下步骤:以每秒N次的速率来发射脉冲雷射光束;将脉冲雷射光束做成线性光束的形状,此线性光束在其宽度方向上具有宽度L、连续地或以步阶方式地改变之能量轮廓、及100至500mJ/cm2的平均单一脉冲能量密度;及当以速度V在宽度方向上使用雷射光束扫描时,施加雷射光束至具有150至1000埃厚度之矽膜的预定区域,其中在一次扫描中被施加至预定区域的雷射光束脉冲之数目满足10≦LN/V≦30之关系。16.如申请专利范围第11.12或13项之雷射退火方法,其中矽膜包含一金属元素用于加速矽之结晶,其浓度为11016至51019原子/cm3。17.一种雷射退火方法,包含以下步骤:以每秒N次的速率来发射脉冲雷射光束;将脉冲雷射光束做成一形状,使得其具有一能量轮廓,其中在预定方向的长度L上方,能量密度系连续地或以步阶方式地改变;及当以速度V在预定方向上使用雷射光束扫描时,施加雷射光束至一预定区域,其中在一次扫描中被施加至预定区域的雷射光束脉冲之数目n满足10≦LN/V≦30之关系。18.一种雷射退火方法,包含以下步骤:以具有能量密度轮廓之雷射光束来照射一物体;其中在至少一个或许多个状态的能量密度轮廓之照射能量密度,雷射光束可熔化此物体,且在至少另一个或许多个状态的能量密度轮廓之照射能量密度,能以低于物体之熔点的温度来加热此物体,而照射能量密度是在许多状态之中步阶式地或连续地改变。图示简单说明:图1指出雷射光束照明之装置的一般造形。图2指出将雷射光束做成线性形状之透镜。图3形地指出以具有正常分布型式能量轮廓之线性雷射光束的扫描。图4为一图形指出正常分布型式能量轮廓的一般形状。图5图形地指出以具有梯形能量轮廓之线性雷射光束的扫描。图6为依据本发明之照射能量轮廓。图7为依据本发明之照射能量轮廓。