发明名称 METHOD FOR FORMING A TITANIUM SILICIDE CONTACT OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR1019970007818(B1) 申请公布日期 1997.05.17
申请号 KR1019930021059 申请日期 1993.10.12
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
地址
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