| 主权项 |
1.一种清洗及蚀刻工具机台,适用于对一晶圆进行蚀刻及清洗程序,该清洗及蚀刻工具机台包括:一载入器,用以载入该晶圆;至少一缓冲槽,每一该缓冲槽用以存放一种化学溶液;至少一处理槽,用来存取该载入之晶圆,该处理槽耦接到上述缓冲槽,以汲取由该缓冲槽存放之该化学溶液,进而对该晶圆进行蚀刻及清洗程序。2.如申请专利范围第1项所述之清洗及蚀刻工具机台,更包括一烘乾器,用以将完成该蚀刻及清洗程序之晶圆烘乾;一卸载器,用以将该晶圆取出。3.如申请专利范围第1项所述之清洗及蚀刻工具机台,其中该些缓冲槽中至少有一该缓冲槽用以存放一含氟化学溶液,其余部份之该些缓冲槽用以存放一非含氟化学溶液。4.如申请专利范围第3项所述之清洗及蚀刻工具机台,其中用以存放该含氟化学溶液之该缓冲槽组成物质为聚四氟乙烯。5.如申请专利范围第4项所述之清洗及蚀刻工具机台,其中用以存放该非含氟化学溶液之该缓冲槽组成物质为石英。6.一种清洗及蚀刻工具机台,适用于对晶圆进行蚀刻及清洗程序,该清洗及蚀刻工具机台包括:至少第一及第二缓冲槽,该第一缓冲槽用以存放一种含氟化学溶液,而该第二缓冲槽用以存放一种非含氟化学溶液;一第一及第二处理槽,用来存取该晶圆,该第一及第二处理槽系应耦接到上述各第一及第二缓冲槽,以汲取该些缓冲槽分别存放之该化学溶液,进而对该晶圆进行蚀刻及清洗程序。7.一种清洗及蚀刻工具机台,适用于接收一外部系统之一化学溶液,并对一晶圆进行蚀刻及清洗程序,该清洗及蚀刻工具机台包括:一载入器,用以载入该晶圆;一缓冲槽,用以接收并储存外部系统之该化学溶液,该缓冲槽包括复数个第一感测器及复数个调节管道,该些第一感测器用以感测上述化学溶液之存量,而该些调节管道用以调节该化学溶液;一处理槽,用来存取该载入之晶圆,该处理槽包括复数个第二感测器、复数个溢流槽、及复数个纯水输出口,该些第二感测器用以感测上述化学溶液之存量,而该些溢流槽用以接收溢流之该化学溶液,而该些纯水输出用以输出一纯水;一帮浦;及一第一至六开关和一第一至第八管件,其连接关系为:该第一开关,经该第一管件耦接到该缓冲槽;该第二开关,其一端经该管件耦接到该第一开关,另一端经该第三管件耦接到该处理槽;该第三开关,其一端经该第四管件耦接到该缓冲槽,另一端经该第五管件经该帮浦耦接到该第一开关与该第二开关间之该第二管件;该第四开关,其一端经该第五管件耦接到该第三开关及该帮浦;另一端经该第六管件耦接到该处理槽之该些溢流槽;该第五开关,其一端耦接到该第六管件,另一端耦接到该第三管件;该第六开关,一端经该第七管件耦接到该第三管件,另一端经该第八管件耦接到该外部系统;当该缓冲槽接收到该外部系统提供之该化学溶液时,由该些第一感测器感测控制输入量,并由该些调节管道调整该化学溶液之容量。8.如申请专利范围第7项所述之清洗及蚀刻工具机台,其中当该晶圆置于该处理槽时,该第一开关、该第四开关、该第五开关、及该第六开关关闭,而该第二开关与该第三开关开启,该化学溶液将经该帮浦吸引作用而经该第四管件、该第五管件、及该第三管件注入该处理槽;当该化学溶液已注入该处理槽后,如果有溢流之该化学溶液,则会流入该些溢流槽,此时该第一开关、该第三开关、该第五开关、及第六开关关闭,而该第二开关与该第四开关开启,并经该帮浦之作用而经该第六管件、该第五管件、该第二管件、及该第三管件而回流至该处理槽内。9.如申请专利范围第8项所述之清洗及蚀刻工具机台,其中当经过一既定时间的作用后,该第二开关、该第三开关、该第五开关、及该第六开关将关闭,而该第一开关与该第四开关将开启,将该些溢流槽内之该化学溶液藉由该帮浦之作用经该第六管件、该第五管件、该第二管件、及该第一管件抽回该处理槽;接着该第五开关开启,将该处理槽内之该化学溶液经该第三管件、该第六管件、该第五管件、该第二管件、及该第一管件抽回该处理槽;并经由该些纯水输出口输出该纯水,藉以清洗该晶圆上残留之该化学溶液,并完成该晶圆之清洗及蚀刻程序。图示简单说明:第一图系显示习知之一种清洗及蚀刻程序;第二图系显示本创作较佳实施例之一种湿蚀刻机台配置图;第三图系显示本创作较佳实施例之清洗及蚀刻机台详细配置图;及第四图系显示本创作较佳实施例之一种湿蚀刻机台之缓冲槽及处理槽详细配置图。 |
