| 摘要 |
본 발명은 제1 표면이 1종 이상의 산화물을 함유하는 하나 이상의 투명한 전기 전도성 박막으로 코팅된 기판의 제조 방법으로서, 상기 하나 이상의 박막을 상기 기판 상에 침착시키는 단계; 상기 하나 이상의 박막에, 하나 이상의 치수가 10 cm를 초과하지 않는, 상기 하나 이상의 필름의 한 영역 상에 집중된, 500 내지 2000 nm의 파장을 갖는 방사선으로 상기 하나 이상의 필름을 조사하는 열 처리 단계를 수행하는 단계를 포함하며, 상기 방사선은 상기 하나 이상의 필름의 반대쪽에 위치한 하나 이상의 방사선 장치에 의해 방출되고, 목적하는 표면을 처리하도록, 상기 방사선 장치와 상기 기판 사이에 상대적 이동을 발생시키고, 상기 열 처리는 처리 동안 상기 하나 이상의 필름의 비저항을 감소시키는 방법에 관한 것이다. |
