| 主权项 |
1.一种含氢氟化聚合物之制法,含氢氟化聚合物系选自:(a)四氢乙烯(TFE)或氯三氟乙烯(CTFE)与乙烯、丙烯或异丁烯之共聚物,氟化单体/非卤化单体之莫耳比自30:70至70:30,可视需要含一或以上氟化共聚单体,其量为0.1至10%莫耳;(b)TFE和/或CTFE与非氟化乙烯醚类之熟化性共聚物;(c)聚偏氟乙烯(PVDF)或改质PVDF,含少量一或以上氟化共聚单体,在0.1和10%莫耳之间;其中相对应的烯烃单体,在游离基光引发剂和波长220nm至600nm的紫外线可见光照射存在下,在-60至+30℃温度和反应压力0.5至80巴(共)聚合,悬浮媒质包括在反应条件为液体之至少一单体,或有机溶剂,选自含氯氟烃类;含氢(氯)氟烃,可视需要含氧原子;(全)氟化聚氧化烷撑类,可视需要在终端位置和/或链上含氢原子;C6-C25支链脂肪族烃类,其特征为甲基与碳原子数间之比大于0.5者。2.如申请专利范围第1项之制法,其中反应温度为-40至20℃者。3.如申请专利范围第1项之制法,其中反应压力为2至20巴者。4.如申请专利范围第1或2项之制法,其中游离基光引发剂系选自如下化合物:二烷基过氧化物类;酮类;二醯基过氧化物类;二或多酮类;过氧基二碳酸酯类;过氧基酯类;卤化或多卤化有机化合物者。5.如申请专利范围第4项之制法,其中游离基光引发剂为有机过氧化物,在温度等于或高于40℃的半生期时间为10小时者。6.如申请专利范围第4项之制法,其中游离基光引发剂系选自:二特丁基过氧化物;烷基卤化物CnXqFrH2n+2-q-,其中X为卤素,选自Cl,Br和I,n为1至10整数;r和q为整数,r可为零,而q始终非零,r+q之和为1至2n+2者。7.如申请专利范围第1项之制法,其中于悬浮媒质加水者。 |
