发明名称 可调式人孔改良构造
摘要 一种可调式人孔改良构造,主要包含一于外圆周上设有多数外调整齿单元之中空圆筒形底座及一于内圆周上设有多数内调整齿单元之中空圆筒形调整环。其中各该外调整齿单元之齿构形系呈高度变化例如斜坡阶梯状,且各该外调整齿单元之整体齿构形均彼此一致,而以连续或间断方式依序排列于底座之外圆周上;另,各该内调整齿单元之齿构形均与各该外调整齿单元之齿构形一致但相反倒置对应,而依序地排列于调整环之内圆周。藉着内调整齿单元及外调整齿单元之密合对应嵌合,调整环即可依需求回转,调整外调整齿单元及内调整齿单元之嵌合位置,而支撑于底座上,故得以使调整环突出底座之高度获得调整。另外,本创作可调式人孔改良构造亦包含于中空圆筒形底座内圆周上设多数内调整齿单元及于中空圆筒形调整环外圆周上设多数外调整齿单元。本创作可调式人孔改良构造并进一步包含一顶盖,以与调整环配合而使人孔平时受顶盖封闭。
申请公布号 TW326221 申请公布日期 1998.02.01
申请号 TW086213557 申请日期 1997.08.11
申请人 朝昌科技股份有限公司 发明人 陈瑞田
分类号 E02D29/14 主分类号 E02D29/14
代理机构 代理人
主权项 1.一种可调式人孔改良构造,包含:一底座,系圆筒中空状,于其外圆周上设有突出之多数相同构形之外调整齿单元,各外调整齿单元之齿构形系呈高度变化之斜坡阶梯状,并于底部设置一固定装置,俾将底座安装固定:一调整环,系圆筒中空状而与底座为同心圆,且调整环内圆周可套合底座外圆周者,其于内圆周上设有突出之多数相同构形之内调整齿单元,各内调整齿单元之齿构形系呈高度变化之斜坡阶梯状,惟内调整齿单元之齿形均与底座上各该外调整齿单元之齿构形一致但相反倒置对应:藉着内调整齿单元及外调整齿单元之密切对应嵌合,调整环即可依需求回转,调整外调整齿单元及内调整齿单元之嵌合位置,而支撑于底座上,故得以使调整环突出底座之高度获得调整。2.依据申请专利范围第1项所述之可调式人孔改良构造,其中该底座之固定装置系呈盘状环设于底座底部者。3.依据申请专利范围第1项所述之可调式人孔改良构造,其中该调整环系由圆筒形中空调整环本体向下延伸设置一圆筒形中空凸缘,并于凸缘之内圆周面突出设置多数各该内调整齿单元者。4.依据申请专利范围第1项所述之可调式人孔改良构造,更包含一顶盖,俾封闭接合于该调整环顶部者。5.依据申请专利范围第4项所述之可调式人孔改良构造,更包含一防水环,且于顶盖底部设一环绕之突出部及于调整环顶部设一与之配合尺寸之环槽,俾防水环及突出部可置入环槽内,产生防漏水作用。6.一种可调式人孔改良构造,包含:一底座,系圆筒中空状,于其内圆周上设有突出之多数相同构形之内调整齿单元,各内调整齿单元之齿构形系呈高度变化之斜坡阶梯状,并于底部设置一固定装置,俾将底座安装固定;一调整环,系圆筒中空状而与底座为同心圆,且调整环外圆周可套合底座内圆周者,其于外圆周上设有突出之多数相同构形之外调整齿单元,各外调整齿单元之齿构形系呈高度变化之斜坡阶梯状,惟外调整齿单元之齿形均与底座上各该内调整齿单元之齿构形一致但相反倒置对应:藉着外调整齿单元及内调整齿单元之密切对应嵌合,调整环即可依需求回转,调整内调整齿单元及外调整齿单元之嵌合位置,而支撑于底座上,故得以使调整环突出底座之高度获得调整。7.依据申请专利范围第6项所述之可调式人孔改良构造,其中该底座之固定装置系呈盘状环设于底座底部者。8.依据申请专利范围第6项所述之可调式人孔改良构造,其中该调整环系由圆筒形中空调整环本体向下延伸设置一圆筒形中空凸缘,并于凸缘之内圆周面突出设置多数各该外调整齿单元者。9.依据申请专利范围第6项所述之可调式人孔改良构造,更包含一顶盖,俾封闭接合于该调整环顶部者。10.依据申请专利范围第9项所述之可调式人孔改良构造,更包含一防水环,且于顶盖底部设一环绕之突出部及于调整环顶部设一与之配合尺寸之环槽,俾防水环及突出部可置入环槽内,产生防漏水作用。图示简单说明:第一图系本创作第一实施例之立体分解图;第二图系本创作第一实施例之组合剖视图;第三图系本创作第一实施例调整环之内调整齿单元与底座之外调整齿单元之嵌合示意图,显示当调整环相对于静止之底座朝顺时针方向旋转时,调整环之齿构形将沿着底座之斜坡阶梯齿构形之上方移动嵌合,而达到使调整环调整稳固定位之目的:第四图系本创作第二实施例之立体分解图;第五图系本创作第二实施例之组合剖视图;第六图系本创作第二实施例调整环之外调整齿单元与底座之内调整齿单元之嵌合示意图;以及第七图习知人孔调昇装置之构造分解图。
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