形成阻体图样之方法

摘要

一种藉由使用化学放大阻体形成阻体图样的方法，该阻体包含一硷不溶基质聚合物或共聚物及一酸产生剂，其中该阻体以以一有机硷性显像剂在一于分子中含有较高烷基之界面活性剂存在下显像阻体膜上该图样化暴露膜，此阻体图样在不具有如断裂或剥离之缺点，且因此可有利用于半导体装置如LSIs及VLSIs的生产。