| 主权项 |
1.一种处理接触元件供腐蚀保护之方法,其包括将该元件置于基本上由膦酸盐、润滑剂和具有高于49℃闪点之溶剂所组成的溶液中。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中膦酸盐系选自一群包括膦酸,膦酸的酯类,及其盐类。3.根据申请专利范围第1项之方法,其中膦酸盐系为具有化学式CH3(CH2)nPH2O3的膦酸,其中n是5到13。4.一种处理接触元件供腐蚀保护之方法,其包括将那些元件置于基本上由具有化学式CH3(CH2)nPH2O3的膦酸和溶剂所组成的溶液中,其中n是5到13。5.根据申请专利范围第3项或第4项之方法,其中膦酸的浓度范围为0.01到10重量百分比。6.根据申请专利范围第3项之方法,其中润滑剂系选自一群包括聚苯醚和三甲苯基磷酸酯。7.根据申请专利范围第3项或第4项之方法,其中溶剂包括异链烷烃。8.根据申请专利范围第7项之方法,其中溶剂进一步包括辛醇。9.根据申请专利范围第1项或第4项之方法,其中接触元件包括传导插梢,该传导插梢具有一可与连接器成对的尾端和一适于包线的相反尾端。10.根据申请专利范围第1项或第4项之方法,其中接触元件浸渍于溶液中1到30秒。11.根据申请专利范围第1项或第4项之方法,其中将溶液加热到20到60℃的温度。12.一种保护接触元件免于腐蚀之溶液,该溶液基本上由膦酸盐、润滑剂和具有至少49℃闪点之溶剂所组成。13.根据申请专利范围第12项之溶液,其中膦酸盐系选自一群包括膦酸,膦酸的酯类,及其盐类。14.根据申请专利范围第12项之溶液,其中膦酸盐系为具有化学式CH3(CH2)nPH2O3的膦酸,其中n是5到13。15.一种保护接触元件免于腐蚀之溶液,该溶液基本上由具有化学式CH3(CH2)nPH2O3的膦酸和溶剂所组成,其中n是5到13。16.根据申请专利范围第14项或第15项之溶液,其中膦酸的浓度范围为0.01到10重量百分比。17.根据申请专利范围第14项之溶液,其中润滑剂系选自一群包括聚苯醚和三甲苯基磷酸酯。18.根据申请专利范围第14项或第15项之溶液,其中溶剂包括异链烷烃。19.根据申请专利范围第18项之溶液,其中溶剂进一步包括辛醇。图示简单说明:第一图是可根据本发明一个具体实施例处理之接触元件阵列的平面视图;及第二图是根据本发明一个具体实施例之处理方法的一个概要图说。 |
