发明名称 半导体雷射光源准直与形状校正的基片型全像光学元件
摘要 本创作系一种利用记录在基板上的全像光栅透镜组所组成半导体雷射光源准直与形状校正元件。该全像光栅透镜组系包含分别考虑具像散且非圆对称输出单频光源的垂直与平行两切面的曲率与发散角所拍摄而得的两全像光栅透镜;基板则为不吸收或低吸收光之平板。全像光栅透镜组中的光栅透镜可为穿透式或反射式相位光栅透镜,具像散与非圆对称特性的半导体雷射光源,经由两个全像光栅透镜的作用与基板内的传播后,可得一准直且圆对称输出的光源。本创作与传统光学元件需将光源准直与形状校正需分开处理有所不同,其优点在于本创作具有平面小型化、简洁、紧密结构与制作容易成本低廉等特性。
申请公布号 TW333339 申请公布日期 1998.06.01
申请号 TW086206669 申请日期 1997.04.24
申请人 张仁淙;黄志贤 新竹巿光复路一段六五一号之三十一;黄远东 新竹巿大学路一○○一号国立交通大学电子研究所;苏德钦 新竹市大学路一○○一号交通大学光电工程研究所 发明人 张仁淙;黄志贤;黄远东;苏德钦
分类号 G02B5/32 主分类号 G02B5/32
代理机构 代理人
主权项 1.一种半导体雷射光源准直与形状校正元件7,其包括一组全像光栅透镜1,2与一低吸收光或不吸收光的介质基板3,此组全像光栅透镜包含可将一面光线准直绕射另一面光线扩束绕射的非对称全像光栅透镜1与将一面准直光线绕射另一面发散光线准直绕射的非对称全像光栅透镜2,全像光栅透镜1与2为满足申请专利说明书内容所述之条件。2.如申请专利范围第1项所述之半导体雷射光源准直与形状校正元件7,其全像光栅透镜组可为反射式体积相位光栅透镜组。3.如申请专利范围第1或2项所述之半导体雷射光源准直与形状校正元件7,其基板3可为光波导型。图示简单说明:第一图(a)半导体雷射光源准直与形状校正的基片型全像元件结构立体图。第一图(b)半导体雷射光源准直与形状校正的基片型全像元件结构xy剖面图。第一图(c)半导体雷射光源准直与形状校正的基片型全像元件结构xz剖面图。第一图(d)半导体雷射光源准直与形状校正的基片型全像元件结构yz剖面图。第二图(a)xz切面光束展开图。第二图(b)yz切面光束展开图。第三图半导体雷射光源准直与形状校正的基片型全像元件准直与形状校正实施例结果。(a)半导体雷射光在非对称全像光栅透镜1的成像。(b)半导体雷射光在非对称全像光栅透镜2后2公分的成像。(c)半导体雷射光在非对称全像光栅透镜2后100公分的成像。
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