| 主权项 |
1.一种用于聚烯烃膜之涂覆组成物,包括(a)30至90%丙烯酸系聚合物或离子键聚合物树脂,其中该丙烯酸系聚合物包括,-单乙烯属不饱和羧酸及中性单体酯类,而该离子键聚合物树脂为乙烯及乙烯基单体与酸类所成之共聚物;(b)至少一种选自下列组群之墨水接受性微粒物质:分子筛、烃类聚合物及分子筛与烃类聚合物之混合物,该墨水接受性微粒物质的量于10至70%之范围。2.如申请专利范围第1项之涂覆组成物,其中,分子筛系选自结构型态为13X、3A、4A及5A之沸石之组群者。3.如申请专利范围第1项之涂覆组成物,其中,烃类聚合物是选自纤维素聚合物、羧甲基纤维素及羟乙基纤维素之组群者。4.如申请专利范围第3项之涂覆组成物,其中,该纤维素聚合物系选自玉米淀粉及棉花纤维之组群者。5.如申请专利范围第1,2或3项之涂覆组成物,其中,该组成物又包括一种或多种选自蜡、氧化矽及TiO2之组群的细粉状微粒物质者。6.如申请专利范围第1项之涂覆组成物,其中,该组成物又包括交联剂。7.如申请专利范围第6项之涂覆组成物,其中,该交联剂为烷基化蜜胺。8.如申请专利范围第1项之涂覆组成物,其中,,-单乙烯属不饱和羧酸系选自丙烯酸、甲基丙烯酸及其混合物之组群者。9.如申请专利范围第1项之涂覆组成物,其中,该中性单体酯类系选自烷基丙烯酸酯及烷基甲基丙烯酸酯者。10.如申请专利范围第1项之涂覆组成物,其中,该酸类系选自甲基丙烯酸及丙烯酸之组群者。11.如申请专利范围第1或3项之涂覆组成物,其又包括氧化矽。12.一种膜结构,包括具有第一表面经表面处理之双轴定向聚丙烯膜,且于该经处理的表面上,具有如申请专利范围第1项之涂覆组成物。13.一种膜结构,包括具有第一表面经表面处理之双轴定向聚丙烯膜,且于该经处理之表面上,具有如申请专利范围第2项之涂覆组成物。14.一种膜结构,包括具有第一表面经表面处理之双轴定向聚丙烯膜,且于该经处理之表面上,具有如申请专利范围第5项之涂覆组成物。15.如申请专利范围第1项之涂覆组成物,系用以制造膜结构者。 |
