发明名称 |
基于异质结氧化物的忆阻元件 |
摘要 |
提供了包括设置在第一电极和第二电极之间的活性区的忆阻元件。活性区包括第一金属氧化物的转换层和第二金属氧化物的导电层,其中第一金属氧化物的金属离子不同于第二氧化物的金属离子。忆阻元件基于在第一金属氧化物和第二金属氧化物之间的氧化物异质结而在低电阻状态下展示出非线性电流‑电压特性。还提供了包括忆阻元件的多层结构。 |
申请公布号 |
CN103890943B |
申请公布日期 |
2016.09.28 |
申请号 |
CN201180074219.0 |
申请日期 |
2011.10.21 |
申请人 |
慧与发展有限责任合伙企业 |
发明人 |
杨建华;M·M·张;S·R·威廉姆斯 |
分类号 |
H01L27/115(2006.01)I;H01L21/8247(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/115(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
韩宏;陈松涛 |
主权项 |
一种忆阻元件,包括:具有纳米级宽度的第一电极;具有纳米级宽度的第二电极;以及设置在所述第一电极和所述第二电极之间并与所述第一电极和所述第二电极电接触的活性区,所述活性区具有第一金属氧化物的转换层和第二金属氧化物的导电层,其中所述第一金属氧化物的金属离子不同于所述第二金属氧化物的金属离子,其中所述第一金属氧化物是钽的氧化物,且其中所述第二金属氧化物是钛或钨的氧化物;并且其中所述忆阻元件基于在所述第一金属氧化物和所述第二金属氧化物之间的氧化物异质结而在低电阻状态下展示出非线性电流‑电压特性。 |
地址 |
美国德克萨斯州 |