| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Erzeugen von Testpattern beim Lotpastenauftrag mittels Siebdruckverfahrens auf Leiterplatten, wobei in einem Teach-In-Verfahrensschritt als Referenzmuster eine Struktur optisch erfaßt und aus dieser Erfassung Referenzdaten für die Testpattern generiert werden. Es ist vorgesehen, daß als Struktur die Druckschablone für das Siebdruckverfahren optisch erfaßt wird.</p> |
