| 主权项 |
1.一种使正光阻剂薄膜之受质显影之方法,其基本上包括以下步骤,于一基质上涂覆一光阻以形成一薄膜、呈像曝光该光阻薄膜、于该薄膜上涂敷一种实质上含有水性氢氧化铵硷和经氟化烷基烷氧化物界面活性剂之含水硷性显影剂组合物,其中该界面活性剂的存在量为10至30ppm,接着冲洗该薄膜上之显影剂组合物,其中在该显影剂组合物中之氢氧化铵硷之当量浓度为0.15至0.5N,该受质包括酚-甲醛树脂和重氮 光活性化合物,且该经氟化烷基烷氧化物其下式:其中n是从6至15之整数。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中在该显影剂组合物中之氢氧化铵硷之当量浓度为0.2至3.5N。3.根据申请专利范围第1项之方法,其中在该显影剂组合物中之氢氧化铵硷之当量浓度为0.261N。4.根据申请专利范围第1项之方法,其中该氢氧化铵硷系选自包括氢氧化四甲基铵、氢氧化三甲塞乙醇铵、氢氧化四(2-羟乙基)铵和其混合物。5.根据申请专利范围第4项之方法,其中该氢氧化铵硷是氢氧化四甲基铵。6.根据申请专利范围第1项之方法,其中n为10。 |
