| 主权项 |
1.一种支撑总成,可供支撑大致而言底部表面扁平的一支撑板,其中该支撑板上可置一镶板,该支撑总成包括:一底座构件;及一机构固定于该底座构件,该机构包括:一横构件,具一第一部分界定一第一纵轴及第二部分界定一第二纵轴,该第一部分连接该底座构件,系用以将该机构支撑于该底座构件上,该横构件可绕该第一纵轴旋转;一第一支撑构件与该横构件第二部分连接;及一第二支撑构件与该横构件第二部分连接,其中该第一纵轴系位于该第一支撑构件与第二支撑构件之间;该第一支撑构件与第二支撑构件于该横构件绕该第一纵轴旋转时,保持与该支撑板底部表面接合,因而自动沿该支撑板底部表面分配该支撑板及其上镶板之重量。2.如申请专利范围第1项所述之支撑总成,其中该第一支撑构件与第二支撑构件可绕该第二纵轴旋转。3.如申请专利范围第1项所述之支撑总成,其中该底座构件再包括一底座部分及至少一对相对的侧部分由该底座部分垂直延伸而出。4.如申请专利范围第1项所述之支撑总成,其中该横构件第一部分系固定于该底座构件至少一对相对的侧部分第一对之间。5.如申请专利范围第1项所述之支撑总成,其中该横构件第二部分包括一第一端与该第一支撑构件一中央部分接合,及一第二端与该第二支撑构件一中央部分接合。6.如申请专利范围第1项所述之支撑总成,其再包括固定于该底座构件之一机构。7.如申请专利范围第1项所述之支撑总成,其中该支撑总成可附着于一输送带。8.一种支撑总成,可供支撑承载支撑板之一玻璃镶板,包括:一底座构件具一底座部分及相对的侧部分由该底座部分延伸而出;一横构件,具一第一部分界定一第一纵轴,该第一部分延伸在该底座构件相对的侧部分之间,及一第二部分界定一第二纵轴,该横构件可绕该第一纵轴旋转;一第一支撑板支撑构件与该横构件之第二部分接合;及一第二支撑板支撑构件与该横构件之第二部分接合,其中该第一纵轴系位于第一、二支撑构件之间,且该第一、二支撑板构件绕该第二纵轴旋转,其中该第一、二支撑板支撑构件界定一支撑板支撑平面以支持该支撑板一底部表面与该第一、二支撑板支撑构件接合。9.一种支撑总成,可供一支撑板在高温环境下保持扁平,该支撑总成包括:一底座总成包括:一第一部分及一第二部分;及一第一支撑柱界定一第一纵轴,该第一支撑柱由该第一部分延伸至该底座总成第二部分;及一水平总成可置于该底座总成上,该水平总成包括:第一、二支撑梁由接近该第一部分处延伸至接近该底座总成第二部分处;多数板界定一支撑表面可与该支撑板一底部表面接合,该多数板各置于该第一、二支撑梁其中之一上;一第一平衡构件界定一第二纵轴,该第一平衡构件由该第一支撑梁延伸至该第二支撑梁,且可支撑该水平总成,其中该支撑表面可沿该支撑板底部表面自动分配该支撑板及任何置于其上镶板之重量。10.如申请专利范围第9项所述之支撑总成,其中该支撑表面可绕该第一纵轴旋转。11.如申请专利范围第9项所述之支撑总成,其中该支撑表面可绕该第二纵轴旋转。12.如申请专利范围第9项所述之支撑总成,其中该第一、二梁至少有一包括一止挡部分可限制该第一、二支撑梁绕该第二纵轴之旋转。13.如申请专利范围第9项所述之支撑总成,其中该支撑梁各包括一对侧部分以至少一接合柱接合。14.如申请专利范围第9项所述之支撑总成,其中该支撑梁各包括至少一接触构件置于该支撑构件两侧部分之间,该至少一接触构件可支撑该等多数板之一。15.如申请专利范围第14项所述之支撑总成,其中该支撑梁各再包括一分配构件,系旋转式的被支撑在该至少一接合柱上,其中该至少一接触构件可枢转式的被置于该分配构件上。16.如申请专利范围第15项所述之支撑总成,其中该至少一接触构件包括一对板枢接点,各可枢转式的支撑该等多数板之一。17.如申请专利范围第15项所述之支撑总成,其中该至少一接触构件包括一枢接点,可枢转式的支撑该至少一接触构件于该分配构件上。18.如申请专利范围第9项所述之支撑总成,其中该支撑柱包括一接触部分可接触该平衡构件,该接触部分被该支撑柱一斜切部分界定。19.一种支撑总成,可供于热处理中支撑一支撑板,该支撑总成包括:一底座总成包括:一第一部分;一第二部分与该第一部分相对;及一第一支撑柱延伸在该第一部分与该底座总成第二部分之间;及一水平总成可旋转式的置于该底座总成上,该水平总成包括:一第一支撑梁约由该第一部分延伸至该底座总成第二部分;一第二支撑梁约由该第一部分延伸至该底座总成第二部分,该第一、二支撑梁相对;一平衡构件接合该第一、二支撑梁,该平衡构件支撑该水平总成于该底座总成上;及多数板形成一支撑表面可沿该支撑板一底部表面分配该支撑板及任何置于其上镶板之重量。20.一种镶板支撑总成,可供支撑一呈垂直方向之镶板,包括:一底座总成包括:一第一侧构件;一第二侧构件与该第一侧构件分开;及一支撑杆可支撑该镶板,该支撑杆由该底座总成第一侧构件延伸至第二侧构件,其中该底座总成绕该支撑杆界定之一纵轴旋转;及一水平总成包括:一第一平衡构件被该底座总成支撑;一第二平衡构件被该底座总成支撑,系置于该支撑杆一与该第一平衡构件之相对侧上;一第一接触构件系可旋转式的置于该第一平衡构件上;及一第二接触构件系可旋转式的置于该第二平衡构件上,其中该第一、二接触构件界定一镶板支撑表面。21.如申请专利范围第20项所述之镶板支撑总成,其中该底座总成再包括一第一接合柱由该底座总成第一侧构件延伸至第二侧构件,该第一接合柱支撑该第一侧构件。22.如申请专利范围第20项所述之镶板支撑总成,其中该第一接触构件包括一枢接构件,可让该第一接触构件枢接于该第一平衡构件上。23.如申请专利范围第20项所述之镶板支撑总成,其再包括多个底座总成及水平总成,以支撑多个呈垂直方向分开之镶板。24.一种支撑总成,可供支撑大致而言底部表面扁平的一镶板,该支撑总成包括:一底座构件;及一机构固定于该底座构件,该机构包括:一横构件,具一第一部分界定一第一纵轴及第二部分界定一第二纵轴,该第一部分连接该底座构件,系用以将该机构支撑于该底座构件上,该横构件可绕该第一纵轴旋转;一第一支撑构件与该横构件第二部分连接;及一第二支撑构件与该横构件第二部分连接,其中该第一纵轴系位于该第一支撑构件与第二支撑构件之间;该第一支撑构件与第二支撑构件于该横构件绕该第一纵轴旋转时,保持与该镶板底部表面接合,因而自动沿该镶板底部表面分配该镶板之重量。25.一种支撑总成,可供一镶板在高温环境下保持扁平,该支撑总成包括:一底座总成包括:一第一支撑柱界定一第一纵轴,该第一支撑柱由该底座总成第一部分延伸至第二部分;一水平总成可置于该底座总成上,该水平总成包括:第一、二支撑梁由接近该底座总成第一部分处延伸至接近该第二部分处;多数板界定一支撑表面可与该镶板一底部表面接合,该多数板各置于该第一、二支撑梁其中之一上;一第一平衡构件界定一第二纵轴,该第一平衡构件由该第一支撑梁延伸至该第二支撑梁,且可支撑该水平总成,其中该水平总成可沿该镶板底部表面自动分配该镶板之重量。图式简单说明:第一图所示乃依据本发明供一支撑板用一支撑总成之第一实施例的透视图。第二图乃第一图中所示该支撑总成之一侧视图。第三图乃依据本发明供一镶板用一支撑总成之又一实施例的顶部透视图。第四图乃第三图中所示该支撑总成之一底部透视图。第五图乃第三图中所示该支撑总成之一截面图。第五图A乃第三图中所示该支撑总成之一截面图,显示镶板系直接置于支撑表面上。第六图乃第三图中所示该支撑总成一代表性板及支撑梁之一详细横截面图。第六图A乃形成第三图中所示该支撑总成一部分之支撑梁的一横截面图。第六图B乃形成第三图中所示该支撑总成一部分之一板的一透视图。第七图乃第四图中所示该支撑总成一支撑柱之一详细横截面图。第八图乃依据本发明一镶板支撑总成之又一实施例的前视图。第九图乃第八图中所示该镶板支撑总成部分横截面之一透视图。第十图乃第八图中所示该镶板支撑总成之一横截面图。第十一图乃第八图中所示该镶板支撑总成之一横截面图。第十二图乃依据本发明用以支撑多数镶板之一镶板支撑总成其又一实施例的透视图。 |
