| 主权项 |
1.一种用以固定一晶圆于一聚焦离子束装置中的晶圆固定单元,包含有:一于一水平平面上之固定框架,具有一对侧板及一前板;一第一构件,其配置于该水平平面上之该前板后方,具有一平坦方形板型状及在一前段有一方形低降,该第一构件可移动地配置于该对侧板之间;一第二构件,具有一界定出一窄端及一宽端的T字型,该第二构件大体上平行且设置于该水平平面上方,其中该T字型的窄端系设置于该方形低降内且连接至该第一构件,该第二构件可移动地配置于该前板上方,该第二构件更包括有多数个大体上垂直于该水平平面之突出部件,各该突出部件具有一大体上垂直于该水平平面之垂直的接触表面,用以接触及固定一晶圆;以及一对弹簧,其配置于该第二构件之棑对二侧,在该等侧板之间且平行于该等侧板,用以将该第一构件连接至该前板,以及允许该第一构件移动至及自一静止位置与一晶圆固定位置。2.如申请专利范围第1项所述之晶圆固定单元,其中该等垂直接触表面之各别宽度相等。3.如申请专利范围第1项所述之晶圆固定单元,其中该等垂直接触表面之各别宽度不同。4.如申请专利范围第1项所述之晶圆固定单元,其中该T字型第二构件之窄端系藉一对夹紧螺钉固定于该第一构件之方形低降上。5.如申请专利范围第1项所述之晶圆固定单元,其中该T字型第二构件之宽端具有一范围约38mm至约40mm的宽。6.如申请专利范围第1项所述之晶圆固定单元,其中该第二构件具有三个突出部件。7.如申请专利范围第6项所述之晶圆固定单元,其中该三个突出部件系对齐且且非常接近地设置于该T字型第二构件之宽端后方。8.如申请专利范围第7项所述之晶圆固定单元,其中该三个突出部件之一中间的垂直接触表面的一个宽度系等于该三个突出部件其余垂直接触表面的各别宽度的总合。9.如申请专利范围第7项所述之晶圆固定单元,其中在该最外面突出部件间的一个距离系大于该第二构件之宽端的宽且小于该晶圆之一平坦区的宽度。图式简单说明:第一图系一传统式FIB(聚焦离子束)装置之晶圆固定单元的示意平面图;第二图系沿着第一图之线II-II'剖开之该晶圆固定单元之一针的剖面图;第三图系一使用第一图之传统式晶圆固定单元之晶圆对齐步骤的流程图;第四图系一示意图,显示相对于第一图之传统式晶圆固定单元之针的突出部件之晶圆平坦区的定向;第五图系一根据本发明之一实施例之FIB装置的晶圆固定单元的示意平面图;第六图系一沿着线IV-IV'剖开之第五图之晶圆固定单元的突出部件的侧视图;第七图系一使用第五图之晶圆固定单元之晶圆对齐步骤的流程图;以及第八图系一示意图,显示相对于第五图之晶圆固定单元之晶圆固定针的多数个突出部件之一晶圆平坦区的定向。 |
