| 发明名称 |
Chemical-mechanical polishing slurry for metal layers and method for polishing same |
| 摘要 |
A slurry for use in chemical-mechanical polishing of a metal layer comprising high purity fine metal oxide particles uniformly dispersed in a stable aqueous medium. <IMAGE> |
| 申请公布号 |
IL115454(A) |
申请公布日期 |
2000.02.17 |
| 申请号 |
IL19950115454 |
申请日期 |
1995.09.28 |
| 申请人 |
CABOT CORPORATION |
发明人 |
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| 分类号 |
H01L21/304;B24B37/00;C09G1/02;C09K3/14;C23F3/00 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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