| 主权项 |
1. 一种工作件运送方法,包含以下步骤:当处理单元与一个设定于处理单元末端之储货棚架(102)分开时,排成一直线之复数处理单元(103)的处理时间会被设定成较短,而处理单元会在彼此相异之预先决定的处理条件下处理工作件;在储货棚架中储存不同处理条件之复数工作件(101);藉由使用一个配置于与储货棚架距离最远的处理单元,从储存于储货棚架之复数工作件中选择一工作件,并运送此工作件至相对应的处理单元;以及藉由使用配置于比一个最后运送之工作件的处理单元更靠近储货棚架的处理单元,连续选择工作件并运送此等工作件至相对应的处理单元。2. 如申请专利范围第1项之工作件运送方法,更包含以下步骤:在使用一个配置于最靠近储货棚架的处理单元运送储存于储货棚架之复数工作件中之其中一个工作件之后,藉由使用一个配置于与储货棚架距离最远的处理单元,而从储存于储货棚架之剩下的工作件中选择一个工作件,并运送此工作件至相对应的处理单元;以及藉由使用配置于比一个最后运送的工作件的处理单元更靠近储货棚架的处理单元,连续选择工作件并运送此等工作件至相对应的处理单元。3. 如申请专利范围第1项之工作件运送方法,更包含以下步骤:当仅使用一个配置于比一个最后运送之工作件的处理单元更靠近储货棚架的处理单元之工作件不存在于储货棚架时,会藉由使用一个配置于更靠近储货棚架的处理单元,而选择一个工作件并运送此工作件至相对应的处理单元。4. 如申请专利范围第1项之工作件运送方法,更包含以下步骤:形成一个条件决定表,于其中,会设定一个最后运送的工作件与下一个所欲选择的工作件间之关系;以及每当一个工作件被从储货棚架运送时,会更新最后运送的工作件,而连续选择工作件之该步骤包含:藉由使用被更新的工作件,并参考条件决定表(117)而决定下一个所欲运送的工作件之步骤。5. 如申请专利范围第1项之工作件运送方法,其中,设定处理时间之该步骤包含配置具有彼此不同蚀刻时间的湿式蚀刻单元之步骤,用以在湿式蚀刻单元与储货棚架分开时缩短蚀刻时间。6. 如申请专利范围第5项之工作件运送方法,其中,选择一个工作件之该步骤包含:选择一个储存于储货棚架且含有复数半导体晶圆的晶舟盒之步骤。7. 一种工作件运送系统,包含:复数之处理单元(130.132.134),排成一直线,用以在复数之预先决定的处理条件下处理工作件,当处理单元与一储货棚架隔开时,该处理单元之处理时间会被设定成较短;一储货棚架(102),设定于该复数处理单元之末端上,用以储存不同处理条件之复数工作件(101);运送装置(104),用以将储存于该储货棚架中之工作件运送至该处理单元;以及运送控制装置(115),用以使用一个配置于距离该储货棚架较远的处理单元,而控制该运送装置从储存于该储货棚架中之复数工作件中选择一个工作件,并将工作件运送至相对应的处理单元。8. 如申请专利范围第7项之工作件运送系统,其中:藉由使用一个配置于与该储货棚架隔开最远的处理单元,该运送控制装置首先会从储存于该储货棚架之复数工作件中选择一个工作件,并将此工作件运送至相对应的处理单元;以及藉由使用配置于比一个最后运送的工作件之处理单元更靠近该储货棚架之处理单元,连续选择工作件并运送工作件至相对应的处理单元。9. 如申请专利范围第7项之工作件运送系统,其中,在储存于该储货棚架中之复数工作件中使用一个配置于与该储货棚架最靠近的处理单元运送一工作件之后,该运送控制装置会使用一个配置于与该储货棚架距离最远的处理单元,而从储存于该储货棚架之剩余的工作件中选择一个工作件,并运送此工作件至相对应的处理单元,而且,藉由使用配置于比一个最后运送的工作件之处理单元较靠近该储货棚架的处理单元,会连续选择工作件并运送此等工作件至相对应的处理单元。10. 如申请专利范围第7项之工作件运送系统,其中,当没有仅使用一个配置于比一个最后运送的工作件的处理单元较靠近该储货棚架的处理单元的工作件存在于该储货棚架时,该运送控制装置会选择一个使用一个配置于更靠近该储货棚架的处理单元之工作件,并运送此工作件至相对应的处理单元。11. 如申请专利范围第7项之工作件运送系统,其中更包含:一条件决定表(117),于其中储存有一个最后运送的工作件与下一个所欲选择的工作件间的关系;以及一记忆体(116),存有关于从该储货棚架最后被运送的工作件之资讯,而且每当运送一个工作件后就会被更新,该运送控制装置会使用存于该记忆体之工作件资讯,并参考该条件决定表,以决定下一个所欲运送的工作件。12. 如申请专利范围第7项之工作件运送系统,其中,该处理单元系为具有彼此相异的蚀刻时间之湿式蚀刻单元。13. 如申请专利范围第7项之工作件运送系统,其中,该工作件系为包含复数半导体晶圆之晶舟盒。 |
