发明名称 液晶颢示装置及其制造方法
摘要 本发明主要在于提供一种能够取得良好的显示画像,制造成本低,且制造时不会使环境恶化之液晶显示装置及其制造方法。亦即,本发明之液晶显示装置的特征是具备:第l基板;该第l基板是形成有黑色矩阵,彩色滤光片及对向电极;及第2基板;该第2基板是形成有经由闸极绝缘膜而彼此交叉配置之复数条的闸极信号线及复数条的源极信号线,及被配置于上述闸极信号线与上述源极信号线的各交点部份之薄膜电晶体,以及分别被配置于藉由上述闸极信号线与上述源极信号线而围绕的领域内之矩阵状像素电极;及液晶层;该液晶层是设置于上述第l基板与上述第2基板之间;并且,由黑色树脂遮光膜与蓝色滤光膜来构成上述黑色矩阵。此外,在本发明之液晶显示装置的制造方法中,由上述蓝色滤光膜所构成的黑色矩阵部份是由分散蓝色颜料而成的光阻剂膜所构成,该光阻剂膜是并用前面曝光法与背面曝光法而形成图案。
申请公布号 TW425534 申请公布日期 2001.03.11
申请号 TW088120730 申请日期 1999.11.26
申请人 日立制作所股份有限公司;日立装置工程股份有限公司 发明人 泉章也;吉冈 正雄;滨本辰雄;秋山典正
分类号 G09F9/35 主分类号 G09F9/35
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种液晶显示装置,其特征是具备:第1基板;该第1基板是形成有黑色矩阵,彩色滤光片及对向电极;及第2基板;该第2基板是形成有经由图极绝缘膜而彼此交叉配置之复数条的闸极信号线及复数条的源极信号线,及被配置于上述闸极信号线与上述源极信号线的各交点部份之薄膜电晶体,以及分别被配置于藉由上述闸极信号线与上述源极信号线而围绕的领域内之矩阵状像素电极;及液晶层;该液晶层是设置于上述第1基板与上述第2基板之间;并且,由黑色树脂遮光膜与蓝色滤光膜来构成上述黑色矩阵。2.如申请专利范围第1项之液晶显示装置,其中上述黑色矩阵是使用上述蓝色滤光膜来形成与上述复数条的源极线重叠的部份(除了上述闸极信号线与上述源极信号线的交点部份以外),并使用上述黑色树脂遮光膜来形成包含上述薄膜电晶体配置部之其他的部份。3.一种液晶显示装置的制造方法,是属于一种包含在第1基板上形成黑色矩阵与彩色滤光片的过程之液晶显示装置的制造方法,其特征为:上述过程包含:在上述第1基板上的预定部份形成黑色树脂遮光膜之第1过程;及接在该第1过程后,在上述第1基板上的预定部份依次形成绿色滤光膜及红色滤光膜之第2过程;及接在该第2过程后,在上述第1基板上全面涂怖分散蓝色颜料的光阻剂,而来形成光阻剂膜之第3过程;及接在该第3过程后,使以框状光罩,由与上述第1基板的光阻剂膜形成面的背面来照射曝光光,而使上述光阻剂膜进行背面曝光之第4过程;及接在该第4过程后,去除上述光阻剂膜的未曝光部份,而来形成蓝色滤光膜之第5过程。4.如申请专利范围第3项之液晶显示装置的制造方法,其中更包含:在上述第3过程与上述第4过程之间,使用光罩,由上述第1基板的光阻剂膜形成面侧来照射曝光光,而使上述光阻剂膜进行前面曝光之过程。5.如申请专利范围第3或4项之液晶显示装置的制造方法,其中当上述绿色滤光膜及上述红色滤光膜的透过率为TG及TR,上述蓝色滤光膜之感光波长域的透过率为TB时,是以透过率TB与透过率TG的比TB/TG及透过率TB与透过率TR的比TB/TR能够分别大于2以上之方式来设定使上述蓝色滤光膜进行背面曝光时之曝光光的曝光波长域。图式简单说明:第一图为本发明之一实施例的液晶显示装置的构成的部份平面图。第二图A,第二图B,第二图C及第二图D为第一图所示之液晶显示装置的制造工程中的黑色矩阵形成工程之一例的剖面模式图。第三图为第一图所示之液晶显示装置的制造工程之一例的流程图。第四图为第一图所示之液晶显示装置之含蓝色用滤光膜的彩色滤光片之光透过特性与蓝色滤光膜制黑色矩阵的形成工程之曝光度的曲线图。第五图A,第五图B,第五图C为习知液晶显示装置之一构成例。
地址 日本