| 主权项 |
1.一种彩色阴极射线管装置,系具备有,至少以聚焦电极和阳极所构成,而具有加速,聚焦电子束于萤光屏上用之电子枪构造体,及产生要偏转从该电子枪构造体所发射之电子束用的偏向磁场之偏向轭,其特征为:前述电子枪构造体乃具有沿着被形成于要形成前述主透镜的聚焦电极和阳极间的电位分布之等电位面所配置之至少一个附加电极,在前述附加电极,当在聚焦电子束于前述萤光屏中央部之无偏转时,施加相当于前述附加电极所配置之前述等电位面的电位之所定位准的电压,而在偏转电子束于前述萤光屏周边部的偏转时,假设前述聚焦电极之施加电压为Vf,前述阳极之施加电压为Eb,前述附加电极之施加电压为Vs时,将使(Vs-Vf)/(Eb-Vf)之値会伴随着电子束之增大偏转量而产生变化,而形成可由前述附加电极在水平方向和垂直方向的聚焦力成为相异之电子透镜。2.如申请专利范围第1项之彩色阴极射线管装置,其中所施加于前述聚焦电极之电压系伴随着电子束增大偏转量而会形成动态性变化之电压。3.如申请专利范围第1项之彩色阴极射线管装置,其中将伴随着电子束增大偏转量而使主透镜之垂直方向之聚焦力形成较水平方向之聚焦力为弱。4.如申请专利范围第1项之彩色阴极射线管装置,其中前述附加电极系由具备垂直方向做为长轴之非圆形电子束通过孔的板状电极所形成,而(Vs-Vf)/(Eb-Vf)之値会同步于要供予前述偏向轭的偏转电流来产生变化,且可伴随着电子束增大偏转量而变小。5.如申请专利范围第1项之彩色阴极射线管装置,其中所施加前述附加电极之电压系伴随着电子束增大偏转量而会形成动态性变化之电压。6.如申请专利范围第1项之彩色阴极射线管装置,其中前述附加电极系由具备水平方向做为长轴之非圆形电子束通过孔的板状电极所形成,而(Vs-Vf)/(Eb-Vf)之値会同步于所供予前述偏向轭的偏转电流来产生变化,且可伴随着电子束增大偏转量而变大。7.如申请专利范围第1项之彩色阴极射线管装置,其中前述电子枪构造体乃具有:对于入射于前述主透镜之前的电子束产生作用之至少一个多极透镜;要施加前述主透镜及前述至少一个多极透镜的聚焦力会同步于所供予前述偏向轭之遍转电流成动态性之变化的电压用之电压施加机构。8.如申请专利范围第7项之彩色阴极射线管装置,其中前述主透镜系伴随着电子束增大偏向量而使其水平方向之聚焦力成相对性地变为强,垂直方向之聚焦力成相对性地变为弱。前述多极透镜系伴随着电子束增大偏向量而使其水平方向之聚焦力成相对性地变为弱,垂直方向之聚焦力成相对性地变为强。9.如申请专利范围第7项之彩色阴极射线管装置,其中所施加前述聚焦电极之电压系伴随着电子束增大偏转量而会形成动态性变化之电压。10.如申请专利范围第7项之彩色阴极射线管装置,其中前述附加电极系由具备垂直方向做为长轴之非圆形电子束通过孔的板状电极所形成,而(Vs-Vf)/(Eb-Vf)之値会同步于要供予前述偏向轭的偏转电流来产生变化,且可伴随着电子束增大偏转量而变小。11.如申请专利范围第7项之彩色阴极射线管装置,其中所施加于前述附加电极之电压系伴随着电子束增大偏转量而会形成动态性变化之电压。12.如申请专利范围第7项之彩色阴极射线管装置,其中前述附加电极系由具备水平方向做为长轴之非圆形电子束通过孔的板状电极所形成,而(Vs-Vf)/(Eb-Vf)之値会同步于要供予前述偏向轭的偏转电流来产生变化,且可伴随着电子束增大偏转量而变大。13.如申请专利范围第7项之彩色阴极射线管装置,其中前述电子枪构造体乃具有要实施预聚焦所入射于主透镜的电子束用之预聚焦透镜,而前述多极透镜系被形成于前述预聚焦透镜内。14.一种彩色阴极射线管装置,系具备有,至少以聚焦电极和阳极所构成,而具有加速,聚焦电子束于萤光屏上用之电子枪构造体,及产生要偏转从该电子枪构造体所发射之电子束用的偏向磁场之偏向轭,其特征为:前述电子枪构造体乃具有沿着被形成于要形成前述主透镜的聚焦电极和阳极间的电位分布之等电位面所配置之至少一个附加电极,在前述附加电极,当在聚焦电子束于前述萤光屏中央部以外之任意部分的某一偏转状态时,施加相当于前述附加电极所配置之前述等电位面的电位之所定位准的电压,而在偏转电子束于前述萤光屏周边部的偏转时,假设前述聚焦电极之施加电压为Vf,前述阳极之施加电压为Eb,前述附加电极之施加电压为Vs时,将使(Vs-Vf)/(Eb-Vf)之値会伴随着电子束之增大偏转量而产生变化,而形成可由前述附加电极在水平方向和垂直方向的聚焦力成为相异之电子透镜。图式简单说明:第一图系显示习知之彩色阴极射线管装置之BPF型DAC&F方式电子枪构造体的结构图。第二图系显示习知之一字型彩色阴极射线管装置的萤光屏上之聚束光点形状之图。第三图系显示具有第一图所示之电子枪构造体的彩色阴极射线管装置之萤光屏上的聚束光点形状之图。第四图系显示在具有第一图所示之电子枪构造体的彩色阴极射线管装置之无偏转时的光学模型图之图。第五图系显示在具有第一图所示之电子枪构造体的彩色阴极射线管装置之进行偏转时的光学模型图之图。第六图系显示本发明之彩色阴极射线管装置的结构图。第七图系显示有关适用于第六图所示之彩色阴极射线管装置的第1实施形态之电子枪构造体的结构图。第八图系显示适用于第七图所示之电子枪构造体的附加电极之构造的斜视图(立体图)。第九图A系显示施加于第七图所示之电子枪构造体的聚焦电极之变动电压图,第九图B系显示供予偏向轭之偏转电流的图。第十图A系显示旋转对称之BPF型主透镜的水平方向及垂直方向的电场图,第十图B系显示其聚焦电极和阳极之间的中心轴上之电位分布图。第十一图A系显示配置附加电极于旋转对称之BPF型主透镜时的水平方向及垂直方向之电场图,第十一图B系显示其聚焦电极和阳极电极间的中心轴上之电位分布图。第十二图A系显示配置附加电极于旋转对称之BPF型主透镜,并令该附加电极成为相异电位时之水平方向及垂直方向的电场图,第十二图B系显示其聚焦电极和阳极之间的中心轴上之电位分布图。第十三图A系显示配置附加电极于旋转对称之BPF型主透镜,并令该附加电极进一步成为不同电位时之水平方向及垂直方向的电场图,第十三图B系显示其聚焦电极和阳极之间的中心轴上之电位分布图。第十四图系说明适用于有关本发明之一实施形态的彩色阴极射线管装置之电子枪构造体的基本结构用之光学模型图。第十五图系说明依据第十四图所示之电子枪构造体来减轻在萤光屏上之聚束光点的椭圆失真用之图。第十六图系显示有关适用于第六图所示之彩色阴极射线管装置的第2实施形态之电子枪构造体的结构图。第十七图系显示适用于第十六图所示之电子枪构造体的附加电极构造的斜视图。第十八图系显示适用于第十六图所示之电子枪构造体的另一附加电极构造之斜视图。第十九图A系显示要施加于第十六图所示之电子枪构造体的变动电压之图,第十九图B系显示供予偏向轭之偏转电流的图。第二十图系显示有关适用于第六图所示之彩色阴极射线管装置的第3实施形态之电子枪构造体的结构图。第二十一图系说明适用于有关本发明之一实施形态的彩色阴极射线管装置之双4极透镜方式的电子枪构造体的基本结构用的光学模型图。第二十二图系说明依据第二十一图所示之电子枪构造体来减轻在萤光屏上之聚束光点的椭圆失真用之图。第二十三图系显示有关适用于第六图所示之彩色阴极射线管装置的第4实施形态之电子枪构造体的结构图。第二十四图系显示有关适用于第六图所示之彩色阴极射线管装置的第5实施形态之电子枪构造体的结构图。 |
