| 发明名称 |
High frequency plasma source |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
AU3926901(A) |
申请公布日期 |
2001.09.03 |
| 申请号 |
AU20010039269 |
申请日期 |
2001.02.21 |
| 申请人 |
CCR GMBH BESCHICHTUNGSTECHNOLOGIE |
发明人 |
MANFRED WEILER;ROLAND DAHL |
| 分类号 |
H01J37/32;H01L21/205;H01L21/3065;H05H1/46 |
主分类号 |
H01J37/32 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
