发明名称 Photosensitive Polymer and Chemically Amplified Photoresist Composition Containing the Same
摘要 <p>본 발명은 감광성 중합체(Photosensitive polymer) 및 이들을 포함하는 화학 증폭형 포토레지스트 조성물(Chemically Amplified Photoresist Composition)에 대한 것이다. 본 발명에 따른 감광성 중합체는 탄소수 1 내지 12개의 지방족 알코올 그룹이 결합된 노르보넨 에스테르와 무수 말레산을 기본 모노머로 하는 중합체이다. 본 발명에 따른 감광성 중합체를 포함하는 화학 증폭형 포토레지스트 조성물은 식각 내성이 크고, 하부 막질에 대한 접착력이 우수하며, 현상액에 대한 습윤성이 크다.</p>
申请公布号 KR100301063(B1) 申请公布日期 2001.09.22
申请号 KR19990031060 申请日期 1999.07.29
申请人 null, null 发明人 정동원;최상준;이시형;이숙
分类号 C08F220/18;C08F222/06;C08F232/04;G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 C08F220/18
代理机构 代理人
主权项
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