发明名称 离子束引出电极机构之电源线中继固定结构
摘要 一种离子束引出电极机构之电源线中继固定结构,系设置于一电极移动臂上,系包括有一设置于电极移动臂上绝缘体、一用以夹置电源线之辅助夹、及一用以将辅助夹固定在绝缘体上之螺丝;其中之辅助夹,系又包括有一第一侧壁、一与第一侧壁相对之第二侧壁、一连接第一侧壁与第二侧壁之底面、以及一形成于第一侧壁与第二侧壁相对位置上之穿孔,此穿孔系用以供螺丝穿设,而形成于邻近底面且位于穿孔下方之第一侧壁与第二侧壁间则形成有一容置空间,用以供一电源线穿过;本创作中,电源线系可以不弯折之方式穿过容置空间设置,可大幅提高电源线之使用寿命、以及延长机台之维修周期。
申请公布号 TW464050 申请公布日期 2001.11.11
申请号 TW089214385 申请日期 2000.08.18
申请人 台湾茂矽电子股份有限公司 发明人 黄福志;曾华仁;李俊杰;洪胜峰
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 李长铭 台北巿中山区南京东路二段二十一巷八号二楼
主权项 1.一种离子束引出电极机构之电源线中继固定结构,系设置于一电极移动臂上,其系包括:一螺丝;一绝缘体,系设于该电极移动臂上,并包括有用以承接该螺丝之一端;及一辅助夹,又包括有一第一侧壁、一与该第一侧壁相对之第二侧壁、一连接该第一侧壁与该第二侧壁之底面、及一形成于该第一侧壁与该第二侧壁相对位置上之穿孔,该穿孔系用以供该螺丝穿设,该第一侧壁与该第二侧壁间相隔有一预定间距,而邻近该底面且位于该穿孔下方之该第一侧壁与该第二侧壁间则形成有一容置空间,该容置空间乃用以供该电源线通过;其中,该中继固定结构于组装时,该电源线系直接穿过该容置空间,藉由该穿孔,该螺丝得将该辅助夹固定在该绝缘体之该端上,而藉由组装时之一施力,乃得以将该预定间距缩小,藉此,该电源线得固定夹置于该容置空间中。2.如申请专利范围第1项所述之离子束引出电极机构之电源线中继固定结构,其中所述之该辅助夹系为一体成形构件者。3.如申请专利范围第1项所述之离子束引出电极机构之电源线中继固定结构,其中所述之该辅助夹之一截面系为一U型截面者。4.如申请专利范围第1项所述之离子束引出电极机构之电源线中继固定结构,其中所述之该预定间距系介于该电源线一线径之0.8至2.0倍间。5.如申请专利范围第4项所述之离子束引出电极机构之电源线中继固定结构,其中所述之该预定间距系等于该电源线之该线径。6.如申请专利范围第1项所述之离子束引出电极机构之电源线中继固定结构,其中所述之该施力系为将该螺丝固定于该绝缘体上之一旋紧施力。7.如申请专利范围第1项所述之离子束引出电极机构之电源线中继固定结构,其中所述之该施力系特别用以将该容置空间缩小之夹紧施力。8.一种辅助夹结构,系用以运用于一离子束引出电极机构之电源线中继固定结构上,该中继固定结构系以一绝缘体固定在一电极移动臂上,该辅助夹则设置于一固定螺丝与该绝缘体间,该辅助夹系包括:一第一侧壁,又包括有一供该螺丝穿设之穿孔;一第二侧壁,系与该第一侧壁相对设置,又包括有一供该螺丝穿设并与该第一侧壁上之该穿孔相对应之穿孔,该第二侧壁与该第一侧壁间又相隔有一预定间距;及一底面,系用以连接该第一侧壁与该第二侧壁,该底面、该第一侧壁与该第二侧壁系于该穿孔之下方形成有一容置空间,用以供该电源线通过;其中,该辅助夹于设置至该中继固定结构时,该电源线系直接穿过该容置空间,而藉由于组装时之一施力,乃得以将该预定间距缩小,使该电源线得固定夹置于该容置空间中。9.如申请专利范围第8项所述之辅助夹结构乃为一体成形构件者。10.如申请专利范围第8项所述之辅助夹结构之一截面系为一U型截面者。11.如申请专利范围第8项所述之辅助夹结构,其中所述之该预定间距系介于该电源线一线径之0.8至2.0倍间。12.如申请专利范围第11项所述之辅助夹结构,其中所述之该预定间距系等于该电源线之该线径。13.如申请专利范围第8项所述之辅助夹结构,其中所述之该施力系为将该螺丝固定于该绝缘体上之一旋紧施力。14.如申请专利范围第8项所述之辅助夹结构,其中所述之该施力系特别用以将该容置空间缩小之夹紧施力。图式简单说明:第一图系为一习知离子束引出电极机构之立体示意图;第二图系为第一图中习知电源线中继固定结构之立体分解图;第三图系为本创作离子束引出电极机构之电源线中继固定结构运用之立体分解图;以及第四图系为本创作电源线中继固定辅助夹之立体示意图。
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