发明名称 洁净室环境用之分析系统及使用其之分析方法
摘要 提供一种洁净室环境之分析系统及经由冷凝洁净室空气之蒸气分析洁净室之水溶性污染物之分析方法。分析系统包含:一冷凝单元用于经由参考空气接触冷却面而冷凝洁净室之参考空气所含水溶性污染物;及一分析单元用于接收得自冷凝单元之冷凝水。分析方法包含下列步骤: a)经由冷却待分析之参考空气而冷凝参考空气所含水溶性污染物;b)供给冷凝水至分析单元达某种量;及c)于分析单元分析供给的冷凝水。
申请公布号 TW466127 申请公布日期 2001.12.01
申请号 TW087117411 申请日期 1998.10.21
申请人 三星电子股份有限公司 发明人 刘南姫;李顺荣;黄正性;金光映
分类号 B01D5/00 主分类号 B01D5/00
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种洁净室环境分析系统,其包含:一冷凝单元用于藉由参考空气接触冷却面而冷凝洁净室之参考空气所含的水溶性污染物;及一分析单元用以分析由冷凝单元接收之冷凝水。2.如申请专利范围第1项之洁净室环境分析系统,其中该冷凝单元包含:一冷凝管用于供待分析之参考空气通过其内部,及藉由参考空气接触其内壁及冷却水蒸气而冷凝参考空气内部之水蒸气;一冷却装置用于冷却冷凝管;一真空压力产生器用于导引冷凝管内部之参考空气流;一冷凝水收集器用于收集冷凝管内冷凝的冷凝水;及一冷凝水供给器用于供给于冷凝水收集器内收集的冷凝水至分析单元。3.如申请专利范围第2项之洁净室环境分析系统,其中该冷凝管系直立安装,故参考空气系由上端向下导入冷凝管,及由下端排放。4.如申请专利范围第2项之洁净室环境分析系统,其中该冷凝管系安装成贯穿冷却装置。5.如申请专利范围第2项之洁净室环境分析系统,其系以具有复数冷凝管平行对正设置为特征。6.如申请专利范围第2项之洁净室环境分析系统,其该冷凝管系由玻璃类别材料制成。7.如申请专利范围第2项之洁净室环境分析系统,其中该冷凝装置包含:一冷却槽用于密封室容纳待接触冷凝管之冷却流体;及一冷却冷却流体用之冷却器包括:一压缩机用于压缩冷媒而冷却冷却槽内部的冷却流体,维持该冷却流体于某种温度,及一膨管器用于膨大冷媒,冷却器具有一冷却周期故冷媒系循环于压缩机与膨管器间。8.如申请专利范围第7项之洁净室环境分析系统,其中该冷却流体为冷却水或冷却气体。9.如申请专利范围第7项之洁净室环境分析系统,其中该冷却槽之构造为膨管器架设于冷却槽一壁内部用于冷却冷却流体。10.如申请专利范围第7项之洁净室环境分析系统,其中该冷却槽之构造方式为一门设置于其前侧可开/闭及该冷管竖立嵌合于冷却槽,故当拆卸冷凝管时可打开门并由冷却槽中取出冷凝管。11.如申请专利范围第7项之洁净室环境分析系统,其中该冷却器包含一冷却剂控制器用于控制冷却器之压缩机,使冷凝管内壁温度维持于特定温度范围内之某种温度,设定冷凝管之内壁温度于0℃至10℃之范围。12.如申请专利范围第2项之洁净室环境分析系统,其中该真空压力产生器包含:一空气抽取管安装成其一端系插入贯穿冷凝内壁一端朝向其内侧,及吸收存在于冷凝管一端之空气,因此待分析之参考空气被吸收入冷凝管之另一端;及一真空泵其系联结空气抽取管另一端及形成真空压力于空气抽取管。13.如申请专利范围第12项之洁净室环境分析系统,其中该空气抽取管系安装成其一端距冷凝管内壁某个距离异位俾防止移动通过冷凝管内壁之冷凝水被吸收入空气抽取管内。14.如申请专利范围第13项之洁净室环境分析系统,其中该空气抽取管一端系以距冷凝管内壁某个距离延伸至冷凝管内部,且以"L"字型弯曲因而不会妨碍藉重力沿着冷凝管内壁向下移动的冷凝水流。15.如申请专利范围第12项之洁净室环境分析系统,其中该真空压力产生器包含一空气量控制器俾检查其控制经由空气抽取管被吸收的参考空气量。16.如申请专利范围第15项之洁净室环境分析系统,其中该空气量控制器为质量流量控制器(MFC)。17.如申请专利范围第2项之洁净室环境分析系统,其中该冷凝水收集器包含:一冷凝水容器其呈漏斗形安装于冷凝管下方,及收集藉重力沿冷凝管内壁向下移动之冷凝水;及一冷凝水管用于移动收集于冷凝水容器的冷凝水至分析单元,其一端系连通至冷凝水容器底部,及其另一端系连通至分析单元。18.如申请专利范围第17项之洁净室环境分析系统,其中该冷凝水容器系由玻璃类别材料制成。19.如申请专利范围第17项之洁净室环境分析系统,其中该冷凝水收集器进一步包含:阀安装于冷凝水管用以开/闭冷凝水管;及一控制器用于藉施加信号使阀选择性开/闭而控制阀。20.如申请专利范围第19项之洁净室环境分析系统,其中该控制器控制前述阀而使连通于复数冷凝管之复数阀以特定顺序逐一开/闭,及冷凝管之冷凝水连续供给分析单元。21.如申请专利范围第20项之洁净室环境分析系统,其中该阀为电磁阀。22.如申请专利范围第17项之洁净室环境分析系统,其中该冷凝水供给器包含:注入回路其系架设于连通冷凝水容器与分析单元之冷凝水管上,其中该收集于冷凝水容器之冷凝水系于供给分析单元之前暂时积聚;及一流体泵用于加压积聚于注入回路之冷凝水俾供给分析单元。23.如申请专利范围第22项之洁净室环境分析系统,其中该流体泵为正位移泵。24.如申请专利范围第23项之洁净室环境分析系统,其中该正位移泵为活塞泵作为往复式泵。25.如申请专利范围第24项之洁净室环境分析系统,其中该活塞泵之能力为每分钟0.1至2毫升。26.如申请专利范围第22项之洁净室环境分析系统,其中该冷凝水供给器进一步包含积聚注入回路之冷凝水排放管线待直接排放冷凝水而无须通过分析单元。27.如申请专利范围第26项之洁净室环境分析系统,其中该排放管线包含:一冷凝水排放管架设于流体泵出口,及排放特定量之冷凝水离开冷凝单元而无须通过分析单元;及一排放水容器用于容纳排放的水。28.如申请专利范围第27项之洁净室环境分析系统,其中该排放水容器包含:一液面感测器用于感测排放水量;及一控制器用于接收得自液面感测器之液面信号时控制排放水之排放时间。29.如申请专利范围第1项之洁净室环境分析系统,其中该分析单元为离子层析仪(I.C)。30.如申请专利范围第29项之洁净室环境分析系统,其中该离子层析仪包含:一溶剂供给器用于混合溶剂与样本用于测量导电率;一柱用于接收混合溶剂之样本及将样本离子分离成为特定物质组;一抑制器用于抑制于柱中分离之特定物质组之与样本混合的溶剂改变率;一导电率量测仪用于藉由测量通过抑制器之样本内所含特定物质之导电率而分析样本组合成分;及一排放管线用于排放通过导电率量测仪之样本及溶剂。31.如申请专利范围第30项之洁净室环境分析系统,其中该溶剂供给器包含:一溶剂供给源用于容纳溶剂;及一溶剂供给泵用于形成溶剂之流体压力俾便流动通过溶剂供给管及供给至注入回路。32.如申请专利范围第30项之洁净室环境分析系统,其中该离子层析仪进一步包含:依标准溶液供给器用于供给阳离子或阴离子之标准溶液作为待测量导电率量测仪初步资讯资料用之物件。33.如申请专利范围第30项之洁净室环境分析系统,其中该分析单元之导电率量测仪包含:一运算工具用于计算空气中之水溶性污染物浓度,该运算工具系经由比较标准溶液之已知导电率及浓度値将样本之导电率测量値换算为样本浓度,及将换算后之样本浓度乘以导引通过导电率量测仪之样本量及吸收速率,其表示空气中之水溶性污染物被吸收入冷凝水之吸收程度;及一显示部件用于显示由运算工具计算得知。34.如申请专利范围第30项之洁净室环境分析系统,其中该导电率量测仪进一步包含测量资料库之记忆装置因而于需要时刻检视测量値。35.如申请专利范围第1项之洁净室环境分析系统,其进一步包含一粒子计数器用于计数被吸收入冷凝单元之参考空气所含微粒数目。36.如申请专利范围第1项之洁净室环境分析系统,其进一步包含一湿度计用于测量被吸收入冷凝单元之参考空气温度。37.如申请专利范围第1项之洁净室环境分析系统,其进一步包含一温度计用于测量被吸收入冷凝单元之参考空气温度。38.如申请专利范围第1项之洁净室环境分析系统,其进一步包含一压力计用于测量被吸收入冷凝单元之参考空气压力。39.一种洁净室环境用之分析系统,其包含:一冷凝单元用于经由参考空气接触冷却面而冷凝洁净室之参考空气所含水溶性污染物;一分析单元用于分析接收得自冷凝单元之冷凝水;及一冷凝水供给装置,其系设置于冷凝单元与分析单元间,及供给冷凝单元之冷凝水至分析单元达某种量。40.如申请专利范围第39项之洁净室环境分析系统,其中该冷凝水供给装置包含:一注入回路连通于安装于冷凝单元底侧之冷凝水管用以暂时性积聚冷凝水;及一活塞泵用于加压积聚于注入回路之冷凝水而供给分析单元。41.如申请专利范围第39项之洁净室环境分析系统,其中该冷凝水供给装置进一步包含一排放管线用于直接排放收集于注入回路之冷凝水而无须通过分析单元。42.如申请专利范围第39项之洁净室环境分析系统,其中该作为离子层析仪之分析单元包含:一溶剂供给器用于混合溶剂与样本供测量导电率;一柱用于接收与样本溶剂混合之样本及将样本离子分离成为特定物质组;一抑制器用于抑制于柱中分离之特定物质组内与样本混合的溶剂之导电率;一导电率量测仪用于测量通过抑制器样本所含特定物质之导电率而分析样本主义成分;及一排放管线用于排放通过导电率量测仪之样本及溶剂。43.如申请专利范围第42项之洁净室环境分析系统,其中该溶剂供给器包含:一溶剂供给源用以容纳溶剂;及一溶剂供给泵用于形成流体压力使溶剂通过溶剂供给管并供给注入回路。44.一种使用分析系统分析洁净室环境之分析方法,包含:一冷凝单元用于藉由参考空气接触冷却面而冷凝洁净室参考空气所含的水溶性污染物;及一分析单元用以分析由冷凝单元接收之冷疑水;该分析方法包含下列步骤;(a)经由冷却待分析之参考空气而冷凝参考空气所含水溶性污染物;(b)供给冷凝水至分析单元达某种量;及(c)于分析单元分析供给的冷凝水。45.如申请专利范围第44项之洁净室环境分析方法,其中该a)冷凝步骤较佳包含下列步骤:(a1)藉由循环冷媒冷却参考空气;及(a2)吸收参考空气,其系藉由作动真空泵形成真空压力而导引气流。46.如申请专利范围第45项之洁净室环境分析方法,其中a1)冷却步骤之特征为维持参考空气之冷却温度于大于0℃之温度。47.如申请专利范围第45项之洁净室环境分析方法,其中a2)吸收步骤之特征为控制被吸收之参考空气量俾使通过冷凝单元之参考空气速度量适化,如此于参考空气由冷凝单元排放出之前充分冷却参考空气。48.如申请专利范围第44项之洁净室环境分析方法,其中该供给步骤之特征为测量导电率用之溶剂系以某种比例混合于a)冷凝步骤冷凝的冷凝水。49.如申请专利范围第44项之洁净室环境分析方法,其进一步包含于b)供给步骤前之清洁步骤,其中使用某种量之冷凝水去除原先存在于冷凝单元之旧冷凝水而无须通过分析单元且由冷凝单元排放出。50.如申请专利范围第44项之洁净室环境分析方法,其进一步包含于b)供给步骤前测量送进冷凝单元之参考空气温度、湿度、压力及粒子数目之步骤。图式简单说明:第一图显示根据本发明之较佳具体例之洁净室环境用分析系统;第二图为第一图之冷却槽之透视图;第三图为剖面侧视图显示第一图之冷凝管及其下部件;及第四图为代表图显示施加第三图冷凝管内侧气体分子之例。
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