发明名称 Manufacturing Method oF High Purity Cylindrical Mold Substrate For Nano Pattern Formation
摘要 본 발명은 나노 패턴 형성용 고 순도 원통형 금형 기재의 제조방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로 원통형 합금 금형 기재의 외주면 표면을 랩핑(lapping) 가공하는 단계; 상기 랩핑 가공된 원통형 합금 금형 기재의 외주면 표면을 폴리싱(polishing) 가공하는 단계; 및 상기 폴리싱 가공된 원통형 합금 금형 기재의 외주면 표면에 스퍼터링 공정을 이용하여 고 순도의 알루미늄을 증착하는 단계;를 포함한다.
申请公布号 KR20160122592(A) 申请公布日期 2016.10.24
申请号 KR20150052739 申请日期 2015.04.14
申请人 NEW OPTICS, LTD. 发明人 CHAE, JOO HYUN;SEO, SANG HYUN;SHIN, MYUNG DONG;KIM, SUNG HOON
分类号 B29C33/38;B24B19/20;C23C14/34 主分类号 B29C33/38
代理机构 代理人
主权项
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