PLASMA REACTOR WITH TILTABLE OVERHEAD RF INDUCTIVE SOURCE

摘要

오버헤드 RF 공급원 전력 인가장치를 틸팅 축선을 중심으로 틸팅시킴으로써 플라즈마 에칭 속도 분포에서의 경사 교정이 이루어지고, 상기 틸팅 축선의 각도는 프로세싱 데이터 중의 경사로부터 결정된다. 플로팅 플레이트를 지지하는 정확하게 3개의 축선 운동 서보를 통합함으로써 이동의 완전한 자유가 제공되며, 상기 플레이트로부터 오버헤드 RF 공급원 파워 인가장치가 현수된다.