| 主权项 |
1.一种改善晶圆均匀性之湿制程设备,系用来承载至少一晶圆以进行一湿制程,该改善晶圆均匀性之湿制程设备至少包括:一主体;在该主体之一端连接一支撑物,其中该支撑物系用以支撑该改善晶圆均匀性之湿制程设备;在该主体之另一端连接有一第一夹具与一第二夹具,其中该第一夹具与该第二夹具可沿一旋转中心旋转,且该第一夹具与该第二夹具系用来固定该至少一晶圆。2.如申请专利范围第1项所述之改善晶圆均匀性之湿制程设备,其中上述之主体具有该第一夹具与第二夹具的该另一端更具有一齿轮装置,该齿轮装置系用以使该第一夹具与该第二夹具相互连接。3.如申请专利范围第1项所述之改善晶圆均匀性之湿制程设备,其中上述之主体具有该第一夹具与第二夹具的该另一端更具有一动力机械装置,利用该动力机械装置可使该第一夹具与该第二夹具上升或下降。4.一种改善晶圆均匀性之湿制程设备,系用来承载至少一晶圆以进行一湿制程,该改善晶圆均匀性之湿制程设备至少包括:一主体;在该主体之一端连接至少一支撑物,其中该支撑物系用以支撑该改善晶圆均匀性之湿制程设备;在该主体之另一端连接有复数个夹具,该些夹具可沿一旋转中心旋转,且该些夹具系用来固定该至少一晶圆。5.如申请专利范围第4项所述之改善晶圆均匀性之湿制程设备,其中上述之主体具有该些夹具的该另一端更具有一齿轮装置,该齿轮装置系用以使该些夹具相互连接。6.如申请专利范围第4项所述之改善晶圆均匀性之湿制程设备,其中上述之主体具有该些夹具的该另一端更具有一动力机械装置,利用该动力机械装置可使该些夹具上升或下降。图式简单说明:第1a图所绘示为习知湿制程设备之示意图;第1b图所绘示为习知湿制程设备之前视图;第2a图所绘示为本发明湿制程设备之示意图;以及第2b图所绘示为本发明湿制程设备之前视图。 |
