| 主权项 |
1.一种藉由阴极溅镀涂布板形基片之装置,其具有一个接一个的多个制程室,其向上各自经由一天花板而限制,其各自具有一洞口,其由一至少具有一阴极的盖子所覆盖,并且其中此制程室具有光圈与冷冻剂管线,其特征为:此光圈(17,27,28,29)与冷冻剂管线(16)是设置一个在制程室(1)中突出可以从洞口(4)向上朝外抽出的支架(10)之上,其具有支撑组件(11),是在天花板(3)之覆盖物表面(9)上支撑,并且此支撑组件(11)的盖子(5)突出,并且由上直接在天花板(3)上密封安装。2.如申请专利范围第1项之装置,其中在洞口(4)内的覆盖物表面(9)设有藉由阶梯形等级(8)内部两个,此洞口(4)各自纵侧相邻的边缘区域。3.如申请专利范围第1或2项之装置,其中此支架(10)在其纵侧上具有一个藉由握住处理室(1)的伸臂(12),其具有至少用于冷冻剂之供应通路(13)。4.如申请专利范围第3项之装置,其中此供应通路(13)向下对准,并且配置于制程室(1)上冷冻剂输送通路(14)之外侧,此冷冻剂输送通路与伸臂(12)之供应通路(13)对准。5.如申请专利范围第1或2项之装置,其中光圈(17,27,28,29)具有可与冷冻剂相连接之冷水管(30)。6.如申请专利范围第5项之装置,其中此光圈(28)形成箱形,并且显示介于两个输送辊子(25,32)之间靠近护套表面,此等输送辊子所经过的区域。7.如申请专利范围第3项之装置,其中在伸臂(12)侧的支架(10),具有一个与大气相连接存在,而与制程室(1)、隔绝的供应室(15),在其中配置了用于将冷冻剂连接至光圈(17,27,28,29)之冷冻剂管线(16)。8.如申请专利范围第1或2项之装置,其中此支架(10)靠近光圈(17,27,28,29)、在其底侧上对制程室(1)之中间底部(24)藉由压挤密封(31)而密封。9.如申请专利范围第1或2项之装置,其中具有气体管(18)之盖子(5),此管用于输送制程气体,并且具有经由握住制程室(1)的气体通路(19);以及具有在制程室(1)外侧与气体通路(19)对准之气体输送通路(20)。10.如申请专利范围第1或2项之装置,其中此支架(10)与阴极配置(6)的盖子(5)机械式连结。图式简单说明:第1图显示经由根据本发明之涂布装置之横截面图;第2图显示阴极单元的前视图;第3图显示涂布装置之底座之前视图;第4图显示阴极单元之侧视图;第5图显示经由涂布装置之部份区域之纵截面图,是由待涂布基片之运动方向观看。 |
