| 摘要 |
<p>본 발명은 액정표시장치의 화소전극을 구성하는 ITO막을 식각하는 에칭방법에 관련된 것으로써, ITO막의 에천트에 의하여 하부 금속막의 손상을 방지함과 아울러 에칭속도를 빠르게하여 작업공정을 단축하고, 에천트의 온도를 비교적 낮게 유지하여 에천트의 증발량을 줄이므로써 에천트의 소비량을 줄이고, 에천트에 포함된 유해물질이 작업자에게 적게 노출되도록 하는데 목적이 있다. 상기 목적 달성을 위하여 본 발명의 ITO막의 에칭방법은 적어도 Cr,Al,Mo 등이 하부막으로 형성되어 있는 기판 위에 절연막 등을 개재하여 ITO막을 증착하는 단계, 상기 비정질 상태의 ITO막을 15℃∼45℃의 옥살산((COOH)2HO) 에천트로 식각하는 단계, 상기 ITO막의 식각 후에 그 ITO막을 어닐링하여 결정화하는 단계를 거친다.</p> |
