| 主权项 |
1.一种电路后蚀刻检查装置,其包含:一光学检查总成,其察看一电路上之不同区域并提供该电路在该等不同区域之蚀刻特征输出读数;及输出电路系统,其接收该电路在该等不同区域之蚀刻特征输出读数并提供在该等蚀刻特征中至少一些该等不同区域间之一差异输出读数。2.如申请专利范围第1项之装置,其中该输出电路系统包含:一线段识别器,其自该检查总成接收一输出并识别在至少一最小长度上具有一致宽度之导体部份。3.如申请专利范围第1项之装置,其中该输出电路系统包含:一指示点产生器,其定义至少一点位代表一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的位置和长度至少其中之一。4.如申请专利范围第2项之装置,其中该输出电路系统亦包含:一指示点产生器,其定义至少一点位代表一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的位置和长度至少其中之一。5.如申请专利范围第1项之装置,其中该输出电路系统包含:一线宽测量器,其测量在至少一选定最小长度上具有一致宽度之每一线段的线宽。6.如申请专利范围第2项之装置,其中该输出电路系统亦包含:一线宽测量器,其测量在至少一选定最小长度上具有一致宽度之每一线段的线宽。7.如申请专利范围第3项之装置,其中该输出电路系统包含:一线宽测量器,其测量在至少一选定最小长度上具有一致宽度之每一线段的线宽。8.如申请专利范围第1项之装置,其中该输出电路系统亦包含:一报告产生器,其以一图解方式指示每一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的线宽。9.如申请专利范围第2项之装置,其中该输出电路系统亦包含:一报告产生器,其以一图解方式指示每一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的线宽。10.如申请专利范围第3项之装置,其中该输出电路系统亦包含:一报告产生器,其以一图解方式指示每一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的线宽。11.如申请专利范围第5项之装置,其中该输出电路系统包含:一报告产生器,其以一图解方式指示每一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的线宽。12.如申请专利范围第1项之装置,其中该输出电路系统包含:一报告产生器,其以一图解方式指示每一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的线宽的统计分布。13.如申请专利范围第12项之装置,其中该统计分布具有次像素精确度。14.如申请专利范围第2项之装置,其中该输出电路系统包含:一报告产生器,其以一图解方式指示每一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的线宽的统计分布。15.如申请专利范围第14项之装置,其中该统计分布具有次像素精确度。16.如申请专利范围第3项之装置,其中该输出电路系统包含:一报告产生器,其以一图解方式指示每一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的线宽的统计分布。17.如申请专利范围第16项之装置,其中该统计分布具有次像素精确度。18.如申请专利范围第5项之装置,其中该输出电路系统包含:一报告产生器,其以一图解方式指示每一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的线宽的统计分布。19.如申请专利范围第18项之装置,其中该统计分布具有次像素精确度。20.如申请专利范围第11项之装置,其中该输出电路系统包含:一报告产生器,其以一图解方式指示每一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的线宽的统计分布。21.一种电路后蚀刻检查方法,其包含以下步骤:察看一电路上之不同区域并提供该电路在不同区域之蚀刻特征之一输出读数;及接收该电路在不同区域之蚀刻特征的输出读数并提供至少一些该等不同区域间之蚀刻特征之一差异输出读数。22.如申请专利范围第21项之方法,其中该提供一输出读数步骤包含:自该检查总成接收一输出并识别在至少一最小长度上有一致宽度之导体部份。23.如申请专利范围第22项之方法,其中该提供一输出读数步骤亦包含:指示点产生,其定义至少一点位代表一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的位置和长度至少其中之一。24.如申请专利范围第21项之方法,其中该提供一输出读数步骤包含:指示点产生,其定义至少一点位代表一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的位置和长度至少其中之一。25.如申请专利范围第21项之方法,其中该提供一输出读数步骤亦包含:测量在至少一选定最小长度上具有一致宽度之每一线段的线宽。26.如申请专利范围第22项之方法,其中该提供一输出读数步骤亦包含:测量在至少一选定最小长度上具有一致宽度之每一线段的线宽。27.如申请专利范围第23项之方法,其中该提供一输出读数步骤包含:测量在至少一选定最小长度上具有一致宽度之每一线段的线宽。28.如申请专利范围第21项之方法,其中该提供一输出读数步骤亦包含:产生一报告,其以一图解方式指示每一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的线宽。29.如申请专利范围第22项之方法,其中该提供一输出读数步骤亦包含:产生一报告,其以一图解方式指示每一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的线宽。30.如申请专利范围第23项之方法,其中该提供一输出读数步骤亦包含:产生一报告,其以一图解方式指示每一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的线宽。31.如申请专利范围第25项之方法,其中该提供一输出读数步骤亦包含:产生一报告,其以一图解方式指示每一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的线宽。32.如申请专利范围第21项之方法,其中该提供一输出读数步骤包含:产生一报告,其以一图解方式指示每一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的线宽的统计分布。33.如申请专利范围第32项之方法,其中该统计分布具有次像素精确度。34.如申请专利范围第22项之方法,其中该提供一输出读数步骤包含:产生一报告,其以一图解方式指示每一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的线宽的统计分布。35.如申请专利范围第34项之方法,其中该统计分布具有次像素精确度。36.如申请专利范围第23项之方法,其中该提供一输出读数步骤包含:产生一报告,其以一图解方式指示每一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的线宽的统计分布。37.如申请专利范围第36项之方法,其中该统计分布具有次像素精确度。38.如申请专利范围第25项之方法,其中该提供一输出读数步骤包含:产生一报告,其以一图解方式指示每一条在至少一选定最小长度上具有一致宽度之线段的线宽的统计分布。39.如申请专利范围第38项之方法,其中该统计分布具有次像素精确度。图式简单说明:图1为依据一本发明较佳实施例建构作用之电路后蚀刻检查装置的简化图示;图2为图1装置之简化功能方块图;且图3A-3C为有助于了解图2所绘装置运作之图解。 |
