| 主权项 |
1.一种复合脱臭方法,其特征为包含:一种水分子脱臭步骤,以自经处理之气体移除水,以使于该经处理之气体中溶解于水中之臭味成分系移除;一种臭氧脱臭步骤,以将于该水分子脱臭步骤中处理之经处理之气体与电浆臭氧混合及将于该经处理之气体中包含之臭味成分氧化地分解;及一种离子脱臭步骤,以将于该臭氧脱臭步骤中处理之经处理之气体带负电荷地游离及将于该经处理之气体中包含之臭味成分吸收至光催化剂以以氧化之分解。2.根据申请专利范围第1项之复合脱臭方法,其中该水分子脱臭步骤包括辐射处理步骤以降低已移除臭味成分之该经处理之气体之温度。3.根据申请专利范围第1项之复合脱臭方法,其中该臭氧脱臭步骤包括臭氧移除步骤以移除于己氧化地分解臭味成分之该经处理之气体中包含之电浆臭氧。4.根据申请专利范围第1项之复合脱臭方法,其中该经处理之气体系于有机之残渣之好氧性醱酵之期间产生之气体。5.一种复合脱臭系统,其特征为包含:具有以经处理之气体供应之一气体引进开口之第一室、与该第一室相通之第二室、及与该第二室相通之第三室;其中该第一室包括用于冷凝于该经处理之气体中之水之一冷却镶板及用于排出于该冷却镶板上冷凝之水滴连同于该经处理之气体中溶解于水中之臭味成分之一排水镶板;该第二室包括用于产生电浆臭氧之一臭氧产生器及用于经由以该臭氧产生器产生之电浆臭氧而氧化地分解于该经处理之气体中包含之臭味成分之一反应室;及该第三室包括用于带负电荷地游离该经处理之气体之一电子辐射器、用于吸收及氧化地分解于该经处理之气体中包含之臭味成分之一光催化剂镶板、及用于排出该经处理之气体之一气体排出开口。6.根据申请专利范围第5项之复合脱臭系统,其中由该冷却镶板处理之该经处理之气体之相对湿度系比该第一室之外部湿度较低。7.根据申请专利范围第5项之复合脱臭系统,其中该第一室包括一热辐射镶板以降低流通过该冷却镶板之该经处理之气体之温度。8.根据申请专利范围第5项之复合脱臭系统,其中由该热辐射镶板处理之该经处理之气体之温度比该第一室之外部温度较低。9.根据申请专利范围第5项之复合脱臭系统,其中该第一室与该第二室系以一流动通路管而连接,及该臭氧产生器系安置于该第一室与该流动通路管之连接位置。10.根据申请专利范围第5项之复合脱臭系统,其中该第二室包括一臭氧移除过滤器以移除于该经处理之气体中包含之臭氧。11.根据申请专利范围第5项之复合脱臭系统,其中该电子辐射器直接地辐射电子至空间中以将该经处理之气体带负电荷地游离。12.根据申请专利范围第5项之复合脱臭系统,其中该第三室包括一紫外线照射器以照射紫外线至该光催化剂镶板。13.根据申请专利范围第5项之复合脱臭系统,其中该经处理之气体系于有机之残渣之好氧性醱酵之期间产生之气体。14.一种离子脱臭系统,用于吸收于经处理之气体中包含之臭味成分及经由氧化之分解反应而移除该臭味成分,其特征为包含:用于将该经处理之气体带负电荷地游离之一电子辐射器;及用于照射紫外线至该光催化剂镶板之一紫外线照射器。15.根据申请专利范围第14项之离子脱臭系统,其中该电子辐射器直接地辐射电子至空间中以将该经处理之气体带负电荷地游离。16.一种离子脱臭系统,用于吸收于经处理之气体中包含之臭味成分及经由氧化之分解反应而移除该臭味成分,其特征为包含:用于将该经处理之气体带负电荷地游离之一电子辐射器;其中该电子辐射器直接地辐射电子至空间中,因而将该经处理之气体带负电荷地游离。图式简单说明:图1系显示根据本发明之具体实施例之复合脱臭系统之结构图;图2系显示根据本发明之具体实施例之复合脱臭系统之第一室之结构图;图3A系显示根据本发明之具体实施例之复合脱臭系统之第三室之侧面图;图3B系显示根据本发明之具体实施例之复合脱臭系统之第三室之平面图;及图4系显示一电子辐射器之硬体结构之方块图。 |
