| 主权项 |
1.一种用于使线宽摆动比率降低之正光阻组合物,其包含以光阻组合物的非溶剂组分为基准65至95重量百分比的可形成薄膜的酚醛清漆树脂、1至35重量百分比的二叠氮化物光敏剂、占光阻组合物总重量之0.5重量百分比至1.5重量百分比之2,4-二硝基-1-酚和光阻溶剂的掺和物,其中二叠氮化物光敏剂系为重氮磺醯残基和酚性残基之反应产物。2.根据申请专利范围第1项之光阻组合物,其更包含一或多种光阻溶剂。3.根据申请专利范围第1项之光阻组合物,其中有机溶剂系选自包括丙二醇单烷基醚、丙二醇甲基醚醋酸酯、2-庚酮、醋酸丁酯、醋酸戊酯、乙基-3-乙氧基丙酸酯、乳酸乙酯、乙二醇单乙基醚醋酸酯及其混合物。4.根据申请专利范围第1项之光阻组合物,其更包含一或多种添加物,选自包括着色剂、平整剂、抗线纹剂、增塑剂、黏着促进剂、速度增进剂和表面活化剂。5.根据申请专利范围第1项之光阻组合物,其中酚性残基系选自包括多羟基二苯甲酮类、多羟基苯基烷类、酚性寡聚物及其混合物。6.根据申请专利范围第1项之光阻组合物,其中磺醯残基系选自包括2,1,4-重氮磺醯基、2,1,5-重氮磺醯基或其混合物。7.根据申请专利范围第1项之光阻组合物,其中酚醛清漆树脂系为醛和一或多取代之酚性单体的酸催化缩合反应产物。8.一种在基片上制造光阻影像之方法,其包括a)将用于使线宽摆动比率降低的正光阻组合物涂布在基片上,该光阻包含以光阻组合物的非溶剂组分为基准65至95重量百分比的可形成薄膜的酚醛清漆树脂、1至35重量百分比的二叠氮化物光敏剂、占光阻组合物总重量之0.5重量百分比至1.5重量百分比之2,4-二硝基-1-酚和光阻溶剂的掺和物,其中二叠氮化物光敏剂系为重氮磺醯残基和酚性残基之反应产物;b)热处理经涂布过之基片直至实质上所有该溶剂组合物均被除去为止;c)以365毫微米波长之紫外线辐射使已涂布的光阻组合物同影像曝光;及d)以显影液将该涂布的光阻组合物之同影像曝光过的区域除去。9.根据申请专利范围第8项之方法,其更包括在曝光步骤之后但在除去步骤之前,使该经涂布过之基片在加热板上以从90℃至150℃之温度加热30秒至180秒,或在烤炉中加热15分钟至40分钟。10.根据申请专利范围第8项之方法,其更包括在除去步骤之后,使该经涂布过之基片在加热板上以从90℃至150℃之温度加热30秒至180秒,或在烤炉中加热15分钟至40分钟。11.根据申请专利范围第8项之方法,其中该基片包含一或多种成分,选自包括矽、铝、聚合树脂、二氧化矽、经掺杂二氧化矽、氮化矽、钽、铜、聚矽、陶瓷、铝/铜混合物、砷化镓及第III/V族化合物。12.根据申请专利范围第8项之方法,其中显影液为硷性水溶液。13.根据申请专利范围第8项之方法,其中显影液为氢氧化四甲基铵。 |
