发明名称 凹槽滑动式扫描装置
摘要 凹槽滑动式扫描装置包括有一光学扫描单元、一驱动单元、一位移导引单元、以及一壳体以容置前述元件,藉由驱动单元带动光学扫描单元沿着位移导引单元之方向移动并进行扫描动作。其特征在于:位移导引单元系由包括结合于光学扫描单元之至少两耐磨滑动元件、以及一体成形于壳体内部表面之至少两狭长凹槽导轨所构成,该耐磨滑动元件可架置于该凹槽导轨上并沿其方向进行滑动位移,且单单是藉由耐磨滑动元件与凹槽导轨的配合即足够进行光学扫描单元于狭长方向上之位移导引、以及横向与高度方向上之位置定位的工作。可具有材料、制造与组装成本均较低、重量减轻、以及运作时之摩擦阻力与噪音均较小之优点者。
申请公布号 TW520116 申请公布日期 2003.02.01
申请号 TW089211697 申请日期 2000.07.07
申请人 力捷电脑股份有限公司 发明人 张信忠;廖继盟
分类号 H04N1/04 主分类号 H04N1/04
代理机构 代理人 何文渊 台北市信义区松德路一七一号二楼
主权项 1.一种凹槽滑动式扫描装置,包括有:一光学扫描单元,可对一物体进行扫描并将扫描所得到之影像转换成数位讯号;一驱动单元,结合于该光学扫描单元,可提供一驱动力促使光学扫描单元进行位移;一位移导引单元,用以导引光学扫描单元进行直线位移运动;以及,一壳体,内部形成一中空之容置空间以容置前述之光学扫描单元、驱动单元、以及位移导引单元;其特征在于:该位移导引单元系由包括结合固定于光学扫描单元之至少两耐磨滑动元件、以及一体成形于壳体内部表面之至少两狭长凹槽导轨所构成,该耐磨滑动元件可架置于该凹槽导轨上并沿其方向进行滑动位移,且单单是藉由耐磨滑动元件与凹槽导轨的配合即足够进行光学扫描单元之位移导引以及位置定位的工作。2.如申请专利范围第1项所述之凹槽滑动式扫描装置,其中,该壳体与狭长凹槽导轨是藉由塑胶射出一体成形所制成。3.如申请专利范围第1项所述之凹槽滑动式扫描装置,其中,光学扫描单元系为一接触式影像扫描模组(CIS模组)。4.如申请专利范围第1项所述之凹槽滑动式扫描装置,其中,该狭长凹槽导轨之剖面系呈上宽下窄之凹槽结构,且该耐磨滑动元件恰可架设容置于该狭长凹槽导轨之凹沟结构中,使得该凹型之狭长凹槽导轨除可限制耐磨滑动元件沿其狭长方向滑动位移之外、更具有横向定位之功效、且上宽下窄之凹沟结构之倾斜边更可减小与耐磨滑动元件之接触面积以减小摩擦阻力。5.如申请专利范围第1项所述之凹槽滑动式扫描装置,其中,该壳体上侧装设有一可透光面,光学扫描单元即是透过该可透光面进行物体之扫描动作。6.如申请专利范围第1项所述之凹槽滑动式扫描装置,其中,该光学扫描单元系为一模组化生产之元件,该凹槽滑动式扫描装置更包括有一承载基座,其可供架置光学扫描单元,且该至少两耐磨滑动元件系装设于该承载基座之下方。7.如申请专利范围第1项所述之凹槽滑动式扫描装置,其中,光学扫描单元系为长条状,且该至少两耐磨滑动元件系分别位于长条状光学扫描单元的近两末端处,两凹槽导轨的位置则是分别对应配合于两耐磨滑动元件。8.如申请专利范围第1项所述之凹槽滑动式扫描装置,其中,该驱动单元包括有:一马达齿轮组、及一皮带所构成,该皮带系沿着狭长凹槽导轨方向延伸,于光学扫描单元上结合有一扣夹以供夹合于皮带,藉由马达齿轮组驱动皮带回转,进而带动扣夹及光学扫描单元沿着狭长凹槽导轨方向位移。9.一种凹槽滑动式扫描装置,包括有:一壳体,内部形成一中空之容置空间;一光学扫描单元,装置于该容置空间中,可对一物体进行扫描并将扫描所得到之影像转换成数位讯号;一驱动单元,结合于该光学扫描单元,可提供一驱动力促使光学扫描单元进行位移;以及,一位移导引单元,系由包括结合固定于光学扫描单元之至少两耐磨滑动元件、以及一体成形于壳体内部表面之至少两狭长凹槽导轨所构成,该耐磨滑动元件可架置于该凹槽导轨上并沿其方向进行滑动位移,且单单是藉由耐磨滑动元件与凹槽导轨的配合即足够进行光学扫描单元于狭长凹槽导轨方向上之位移导引、以及光学扫描单元于横向与高度方向上位置定位的工作。10.如申请专利范围第9项所述之凹槽滑动式扫描装置,其中,该壳体与狭长凹槽导轨是藉由塑胶射出一体成形所制成。11.如申请专利范围第9项所述之凹槽滑动式扫描装置,其中,光学扫描单元系为一接触式影像扫描模组(CIS模组)。12.如申请专利范围第9项所述之凹槽滑动式扫描装置,其中,该狭长凹槽导轨之剖面系呈上宽下窄之凹沟结构,且该耐磨滑动元件恰可架设容置于该狭长凹槽导轨之凹沟结构中,使得该凹型之狭长凹槽导轨除可限制耐磨滑动元件沿其狭长方向滑动位移之外、更具有横向定位之功效、且上宽下窄之凹沟结构之倾斜边更可减小与耐磨滑动元件之接触面积以减小摩擦阻力。13.如申请专利范围第9项所述之凹槽滑动式扫描装置,其中,该壳体上侧装设有一可透光面,光学扫描单元即是透过该可透光面进行物体之扫描动作。14.如申请专利范围第9项所述之凹槽滑动式扫描装置,其中,该光学扫描单元系为一模组化生产之元件,该凹槽滑动式扫描装置更包括有一承载基座,其可供架置光学扫描单元,且该至少两耐磨滑动元件系装设于该承载基座下方。15.如申请专利范围第9项所述之凹槽滑动式扫描装置,其中,光学扫描单元系为长条状,且该至少两耐磨滑动元件系分别位于长条状光学扫描单元的近两末端处,两凹槽导轨的位置则是分别对应配合于两耐磨滑动元件。16.如申请专利范围第9项所述之凹槽滑动式扫描装置,其中,该驱动单元包括有:一马达齿轮组、及一皮带所构成,该皮带系沿着狭长凹槽导轨方向延伸,于光学扫描单元上结合有一扣夹以供夹合于皮带,藉由马达齿轮组驱动皮带回转,进而带动扣夹及光学扫描单元沿着狭长凹槽导轨方向位移。图式简单说明:图一系为习用之反射式光学扫描机示意图。图二系为本创作凹槽滑动式扫描装置之一较佳实施例的上视示意图。图三系为图二所示实施例之前视示意图。图四系为图二所示实施例之耐磨滑动元件部份之放大示意图。图五系为图二所示实施例之皮带部份之放大示意图。图六系为本创作凹槽滑动式扫描装置之耐磨滑动元件部份的另一实施例示意图。
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