| 主权项 |
1.一种地板表面平坦度之结构改良,该地板系具有一上表面及一下表面,该地板之上表面及下表面之间具有环绕于四周之侧壁,该地板之上表面四周切削加工形成一平整区域。2.如申请专利范围第1项所述之地板表面平坦度之结构改良,其中该地板系呈方形板体。3.如申请专利范围第1项所述之地板表面平坦度之结构改良,其中该平整区域系设于该地板之上表面四周3-20mm的区域。4.如申请专利范围第1项所述之地板表面平坦度之结构改良,其中该地板之上表面上贴设有表皮。5.如申请专利范围第1项所述之地板表面平坦度之结构改良,其中该平整区域包括有一第一部份、一第二部份、一第三部份及一第四部份。6.如申请专利范围第5项所述之地板表面平坦度之结构改良,其中该第一部份及该第二部份系形成于该地板之上表面第一边及第二边,该第一部份及该第二部份系呈相互平行的长条状。7.如申请专利范围第5项所述之地板表面平坦度之结构改良,其中该第三部份及该第四部份系形成于该地板之上表面第三边及第四边,该第三部份及该第四部份系呈相互平行的长条状,该第三部份及该第四部份系与该第一部份及该第二部份呈垂直状且相互连接。图式简单说明:第一图系习知地板之立体图。第二图系习知地板之平面图。第三图系本创作地板之立体图。第四图系本创作地板之平面图。第五图A系本创作地板加工程序之示意图(一)。第五图B系本创作地板加工程序之示意图(二)。第五图C系本创作地板加工程序之示意图(三)。第五图D系本创作地板加工程序之示意图(四)。第六图系本创作地板贴设表皮之示意图。 |
