发明名称 合成树脂上之薄膜形成方法及利用该方法所得之层合膜
摘要 本发明之目的在于提供当在合成树脂上形成薄膜之际,依比较简单方法便可提升合成树脂与薄膜间之密接力。在本发明中,乃在合成树脂上形成保护金属层,然后再形成半穿透金属镜、全反射金属镜、或透明导电膜中之一种的薄膜。保护金属层之材料最好选择自Ti(钛)、Zr(锆)、Nb(铌)、Si(矽)、In(铟)及Sn(锡)中,而为求确保合成树脂与薄膜间之密接性的保护金属层膜厚,最好在1nm以上。此外,因为若保护金属层膜厚偏大的话,随保护金属层的光吸收,将降低整体层积膜的穿透率,因此保护金属层膜厚最好在5nm以下。
申请公布号 TW200300110 申请公布日期 2003.05.16
申请号 TW091132694 申请日期 2002.11.06
申请人 板硝子股份有限公司 发明人 服部 贤二;荻野悦男
分类号 B32B15/08 主分类号 B32B15/08
代理机构 代理人 赖经臣;宿希成
主权项
地址 日本