| 主权项 |
1.一种筒型溅镀装置,用来溅镀一可挠性基板,包含:一腔座,具有间隔设置的一供给腔体及一收集腔体;一传动轴,沿一中心轴线旋转地安装在该腔座上,所述可挠性基板是螺旋地卷绕在此传动轴之一表面上,同时,所述可挠性基板可随该传动轴旋转而卷绕前进,而该传动轴具有位在相反位置的一输入端及一输出端,该传动轴之输入端是架设在该腔座之供给腔体内,而该传动轴之输出端是架设在该腔座之收集腔体内;一背板单元,固定地围绕在该传动轴外围并用来被施加一负偏压;一靶材单元,围绕该传动轴地固设在该背板之一内侧上,此靶材单元可被轰击出气体分子而附着于所述可挠性基板上;及一磁力座,可相对该靶材单元旋转地设在该背板单元外侧,此磁力座具有一围绕该背板单元之基壁,及数个设在该基壁外侧,平行该中心轴线且间隔排列的N极磁铁与S极磁铁。2.根据申请专利范围第1项所述之筒型溅镀装置,其中,该背板单元具有两位在相反位置的组装凹槽,而该筒型溅镀装置更包含两分别设在该等组装凹槽的滚珠轴承,使该磁力座更顺畅地相对该背板单元旋转。3.一种筒型溅镀装置,适合用来处理多数溅镀基板,包含:一腔座,具有间隔设置的一供给腔体及一收集腔体;一传动轴,沿一中心轴线旋转地安装在该腔座上,具有位在相反位置的一输入端及一输出端,该传动轴之输入端是架设在该腔座之供给腔体内,而该传动轴之输出端是架设在该腔座之收集腔体内;一可挠性输送板,螺旋地绕设在该传动轴之一表面上,并可随传动轴旋转而卷绕前进,此可挠性输送板是用来架设所述溅镀基板;一背板单元,固定地围绕在该传动轴外围并用来被施加一负偏压;一靶材单元,围绕该传动轴地固设在该背板单元之一内侧上,此靶材单元可被轰击出气体分子而附着于所述溅镀基板上;及一磁力座,可相对该靶材单元旋转地设在该背板外侧,此磁力座具有一围绕该背板单元之基壁,及数个设在该基壁外侧,平行该中心轴线且间隔排列的N极磁铁与S极磁铁。图式简单说明:第一图是第一种习知溅镀装置的一平面示意图;第二图是该第一种习知溅镀装置之一靶材的平面示意图;第三图是第二种习知溅镀装置的一平面示意图;第四图是该第二种习知溅镀装置之一靶材的平面示意图;第五图是第三种习知溅镀装置的一剖视图;第六图是本创作之一第一较佳实施例之一立体图,图中未显示一腔座;第七图是该第一较佳实施例之一平面图,图中该腔座为剖视状态;第八图是该第一较佳实施例之一轴向剖视图,图中未显示该腔座;第九图是本创作筒形溅镀装置之一第二较佳实施例之一平面图,图中该腔座为剖视状态;及第十图是本创作筒形溅镀装置之一第三较佳实施例之一靶材单元的一立体图。 |
