发明名称 |
到III‑V材料的自对准接触及其制造方法、FET器件及制造方法 |
摘要 |
本发明涉及到III‑V材料的自对准接触及其制造方法、FET器件及其制造方法。提供了用于制造III‑V FET器件中的自对准接触的技术。在一个方面,用于制造到III‑V材料的自对准接触的方法包括以下步骤。将至少一种金属沉积在所述III‑V材料的表面上。使所述至少一种金属与所述III‑V材料的上部反应,以形成金属–III‑V合金层,所述金属–III‑V合金层是自对准接触。使用蚀刻来去除所述至少一种金属的任何未反应部分。将至少一种杂质注入到所述金属–III‑V合金层中。使被注入到所述金属–III‑V合金层中的所述至少一种杂质扩散到所述金属–III‑V合金层和其下面的所述III‑V材料之间的界面,从而降低所述自对准接触的接触电阻。 |
申请公布号 |
CN103247687B |
申请公布日期 |
2016.12.28 |
申请号 |
CN201310049334.3 |
申请日期 |
2013.02.07 |
申请人 |
国际商业机器公司 |
发明人 |
C·拉沃耶;U·拉纳;D·K·萨达那;徐崑庭;P·M·索罗门;孙艳宁;章贞 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/20(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
于静;张亚非 |
主权项 |
一种用于制造到III‑V材料的自对准接触的方法,该方法包括以下步骤:将一种或多种掺杂剂注入所述III‑V材料中,以在所述III‑V材料中选择性地形成分隔开的注入区域;在形成所述注入区域之后,将至少一种金属沉积在所述III‑V材料的表面上;使所述至少一种金属与所述III‑V材料的上部反应,以在所述注入区域内形成金属–III‑V合金层,所述金属–III‑V合金层是自对准接触;使用蚀刻来选择性地去除所述至少一种金属的任何未反应部分;将至少一种杂质注入到所述金属–III‑V合金层中;以及使被注入到所述金属–III‑V合金层中的所述至少一种杂质扩散到所述金属–III‑V合金层和其下面的所述III‑V材料之间的界面,从而降低所述自对准接触的接触电阻。 |
地址 |
美国纽约 |