发明名称 |
HALOGENATED POLYSILANE AND THERMAL PROCESS FOR PRODUCING THE SAME |
摘要 |
본 발명은 순수 화합물 또는 화합물의 혼합물로서의 할로겐화 폴리실란(이하에서 폴리실란이라 함) 및 이를 제조하기 위한 열적 방법에 관한 것이다. 폴리실란은Si NMR 스펙트럼에서 특징적인 이동(shifts)에 의해, 그리고 라만 스펙트럼의 밴드들의 전형적인 세기 비율에 의해 특징지워진다. 폴리실란(SiX)은 높은 비율의 분지쇄 및 환을 가진다. 상기 할로겐화 폴리실란을 제조하는 방법은 높은 쓰로우풋(throughput)(산업상 생산)을 가능하게 하고 특정 가용성 폴리실란의 생산을 가능하게 하는 방법으로 개선되었다. |
申请公布号 |
KR101659098(B1) |
申请公布日期 |
2016.09.22 |
申请号 |
KR20107029330 |
申请日期 |
2009.05.27 |
申请人 |
스판트 프라이빗 에스.에이.알.엘 |
发明人 |
아우너, 노버트;홀, 스벤;바우치, 크리스챤;리폴드, 겔드;델트슈, 루멘;모세니-알라, 세예드-자바드 |
分类号 |
C01B33/107;B01J12/00;C01B9/00 |
主分类号 |
C01B33/107 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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