发明名称 HALOGENATED POLYSILANE AND THERMAL PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
摘要 본 발명은 순수 화합물 또는 화합물의 혼합물로서의 할로겐화 폴리실란(이하에서 폴리실란이라 함) 및 이를 제조하기 위한 열적 방법에 관한 것이다. 폴리실란은Si NMR 스펙트럼에서 특징적인 이동(shifts)에 의해, 그리고 라만 스펙트럼의 밴드들의 전형적인 세기 비율에 의해 특징지워진다. 폴리실란(SiX)은 높은 비율의 분지쇄 및 환을 가진다. 상기 할로겐화 폴리실란을 제조하는 방법은 높은 쓰로우풋(throughput)(산업상 생산)을 가능하게 하고 특정 가용성 폴리실란의 생산을 가능하게 하는 방법으로 개선되었다.
申请公布号 KR101659098(B1) 申请公布日期 2016.09.22
申请号 KR20107029330 申请日期 2009.05.27
申请人 스판트 프라이빗 에스.에이.알.엘 发明人 아우너, 노버트;홀, 스벤;바우치, 크리스챤;리폴드, 겔드;델트슈, 루멘;모세니-알라, 세예드-자바드
分类号 C01B33/107;B01J12/00;C01B9/00 主分类号 C01B33/107
代理机构 代理人
主权项
地址