发明名称 |
METHODS FOR FORMING INTERCONNECT LAYERS HAVING TIGHT PITCH INTERCONNECT STRUCTURES |
摘要 |
유전체 층 내에 조밀 피치 인터커넥트 구조체들을 갖는 인터커넥션 층들을 형성하기 위한 프로세스들이 개시되는데, 여기서 인터커넥트 구조체들을 형성하는데 이용되는 트렌치들 및 비아들은 금속화 이전에 비교적 낮은 종횡비들을 갖는다. 낮은 종횡비들은 금속화 재료가 퇴적될 때 이러한 금속화 재료 내에 보이드들이 형성될 가능성을 감소시키거나 실질적으로 제거할 수 있다. 본 명세서에서의 실시예들은, 금속화 이전에, 트렌치들 및 비아들을 형성하기 위해 이용되는 구조체들의 제거를 허용하는 프로세스들을 통해 이러한 비교적 낮은 종횡비들을 달성할 수 있다. |
申请公布号 |
KR20160110945(A) |
申请公布日期 |
2016.09.23 |
申请号 |
KR20167016684 |
申请日期 |
2014.12.09 |
申请人 |
INTEL CORPORATION |
发明人 |
JEZEWSKI CHRISTOPHER J.;CHAWLA JASMEET S.;SINGH KANWAL JIT;MYERS ALAN M.;TAN ELIOT N.;SCHENKER RICHARD E. |
分类号 |
H01L21/768;H01L21/033;H01L21/311;H01L23/532 |
主分类号 |
H01L21/768 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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