光阻残渣去除液组成物

摘要

本发明系提供一种在半导体电路元件之制造步骤中，对于乾蚀刻后所残留光阻残渣具有极佳的去除性，同时对于新导线材料或阻障金属层、层间绝缘膜等，也不会造成损坏的光阻残渣去除液组合物。此光阻残渣去除液组合物包含：一种或二种以上之氟化物，与由乙醛酸、抗坏血酸、葡萄糖、果糖、乳糖与甘露糖所构成组群中选择出一种或二种以上（除由氟化铵、极性有机溶剂、水及抗坏血酸所形成者之外）。