发明名称 使用吸压装置之凸点形成系统
摘要 一种凸块形成系统,能以低成本及高产能方式提供在位在标的物之焊垫上以形成凸块。该标的物系半导体晶圆或半导体晶片。此系统具有吸压装置,以吸住用以形成凸块之凸块材料,且加压及接合凸块材料至焊垫上。该吸压装置可具有吸压板,该吸压板中形成有用以吸住且固定凸块材料之中空部分,该中空部分可为开孔、凹曲部分及凹沟之其中之一。吸压板可以将欲压缩之凸块材料一起吸附至预定区域,其中该预定区域系相当于晶圆、晶片及块体之其中一者。吸压装置可具有修整板,该修整板具有平坦表面以加压及接合该凸块材料,且具有超音波产生装置。
申请公布号 TW200307360 申请公布日期 2003.12.01
申请号 TW092103988 申请日期 2003.02.26
申请人 悠美瑟股份有限公司 发明人 礒部克
分类号 H01L23/488 主分类号 H01L23/488
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本